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1. (WO2017146239) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GANT
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N° de publication :    WO/2017/146239    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/007226
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 24.02.2017
CIB :
C08L 13/02 (2006.01), A41D 19/04 (2006.01), C08J 3/28 (2006.01), C08K 3/00 (2006.01)
Déposants : ZEON CORPORATION [JP/JP]; 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246 (JP)
Inventeurs : KITAGAWA, Masaru; (JP).
YAMAMOTO, Misa; (JP)
Mandataire : TOKOSHIE PATENT FIRM; Nishishinjuku KN Bldg., 22-27, Nishishinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-034267 25.02.2016 JP
2016-193433 30.09.2016 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING GLOVE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GANT
(JA) 手袋の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a glove, the method provided with: a step for forming a dip-molded layer by dip-molding a latex composition containing a carboxyl-group-containing conjugated-diene-based rubber (A) latex and a metal compound (B) including an at least divalent metal, and essentially not containing sulfur and/or a sulfur-containing compound as a crosslinking agent; and a step for irradiating the dip-molded layer with radiation.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un gant, le procédé comprenant : une étape de formation d'une couche moulée par immersion par moulage par immersion d'une composition de latex contenant un latex de caoutchouc à base de diène conjugué contenant un groupe carboxyle (A) et un composé métallique (B) contenant au moins un métal divalent, et ne contenant sensiblement pas de soufre et/ou de composé contenant du soufre à titre d'agent de réticulation ; et une étape d'exposition de la couche moulée par immersion à un rayonnement.
(JA)カルボキシル基含有共役ジエン系ゴム(A)のラテックスと、2価以上の金属を含む金属化合物(B)とを含有し、架橋剤としての硫黄および/または含硫黄化合物を実質的に含有しないラテックス組成物をディップ成形することで、ディップ成形層を形成する工程と、前記ディップ成形層に、放射線を照射する工程と、を備える手袋の製造方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)