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1. (WO2017146223) SYSTÈME DE DOPAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’ÉLECTRODES, DE BATTERIES ET DE CONDENSATEURS

Pub. No.:    WO/2017/146223    International Application No.:    PCT/JP2017/007169
Publication Date: Fri Sep 01 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Sat Feb 25 00:59:59 CET 2017
IPC: H01G 11/50
H01G 11/06
H01G 11/86
H01G 13/00
H01M 10/0585
H01M 10/0587
Applicants: JSR CORPORATION
JSR株式会社
Inventors: NAOI, Masaya
直井 雅也
KAWADA, Yukihiro
川田 幸広
YAKUSHIJI, Hiroki
薬師寺 広基
AITA, Kazunari
相田 一成
KOKUBO, Terukazu
小久保 輝一
Title: SYSTÈME DE DOPAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’ÉLECTRODES, DE BATTERIES ET DE CONDENSATEURS
Abstract:
La présente invention concerne un système de dopage dans lequel un matériau actif dans un précurseur d’électrode en forme de bande comportant une couche comprenant un matériau actif est dopé avec un métal alcalin. Le système de dopage comprend un réservoir de dopage, une unité de transport, une unité de contre-électrode, une unité de connexion et un élément isolant poreux. Le réservoir de dopage contient une solution comprenant des ions de métal alcalin. L’unité de transport transporte le précurseur d’électrode le long d’un trajet traversant le réservoir de dopage. L’unité de contre-électrode est logée dans le réservoir de dopage. L’unité de connexion connecte électriquement le précurseur d’électrode et l’unité de contre-électrode. L’élément isolant poreux est disposé entre le précurseur d’électrode et l’unité de contre-électrode, et n’est pas en contact avec le précurseur d’électrode.