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1. (WO2017146180) FILM ANTIREFLET ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM ANTIREFLET
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N° de publication :    WO/2017/146180    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/006953
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 23.02.2017
CIB :
G02B 1/111 (2015.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01), C01B 33/145 (2006.01), C08F 2/20 (2006.01), C08F 290/12 (2006.01), G02B 1/118 (2015.01), G02B 1/14 (2015.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : IBUKI Shuntaro; (JP).
YAMAZAKI Takayasu; (JP).
WAKIZAKA Daiki; (JP)
Mandataire : KOH-EI PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP).
TAKAMATSU Takeshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-033786 25.02.2016 JP
Titre (EN) ANTIREFLECTION FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ANTIREFLECTION FILM
(FR) FILM ANTIREFLET ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM ANTIREFLET
(JA) 反射防止フィルム、及び反射防止フィルムの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides an antireflection film, and a method for manufacturing the antireflection film in a simple manner. The antireflection film has at least one layer of an antireflection layer on a substrate, and the antireflection layer includes, inside a region (S) of thickness 20 nm or less in the direction facing the substrate from the outermost surface of the side opposite to the surface on the substrate side, a cured product of a curable composition that contains: a sliding agent (a) having three or more cross-linking groups within one molecule, for which the cross-linking group equivalent is 450 or less, and having a site including at least one type of fluorine atom and a siloxane bond; a curable compound (b) having at least three or more cross-linking groups within one molecule, for which the cross-linking group equivalent is 450 or less, and having neither a fluorine atom nor a siloxane bond; and a photopolymerization initiator (c), and has a region in which the content percentage of the sliding agent (a) is 51% or greater in the material distribution in the cross-sectional direction of the region (S).
(FR)La présente invention concerne un film antireflet et un procédé de fabrication du film antireflet de manière simple. Le film antireflet présente au moins une couche d'une couche antireflet sur un substrat, et la couche antireflet comprend, à l'intérieur d'une région (S) d'une épaisseur de 20 nm ou moins dans la direction faisant face au substrat depuis la surface la plus à l'extérieur du côté opposée à la surface du côté du substrat, un produit durci d'une composition durcissable qui contient : un agent de glissement (a) présentant trois groupes de réticulation ou plus dans une molécule, pour laquelle le groupe de réticulation équivalent est inférieur ou égal à 450, et présentant un site comprenant au moins un type d'atome de fluor et un lien siloxane ; un composé durcissable (b) présentant au moins trois groupes de réticulation ou plus dans une molécule, pour laquelle le groupe de réticulation équivalent est inférieur ou égal à 450, et ne présentant ni un atome de fluor ni un lien siloxane ; et un initiateur de photopolymérisation (c), et présente une région dans laquelle la teneur en agent de glissement (a) est supérieure ou égale à 51 % dans la répartition de matériau dans la direction transversale de la région (S).
(JA)本発明により、基材上に、少なくとも1層の反射防止層を有し、反射防止層は、基材側の面とは反対側の最表面から基材に向かう方向に20nm以下の厚みの領域(S)内に、1分子中に架橋基を3つ以上持ち、架橋基当量が450以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位を有する滑り剤(a)と、少なくとも1分子中に架橋基を3つ以上持ち、架橋基当量が450以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合のいずれも有さない硬化性化合物(b)と、光重合開始剤(c)と、を含む硬化性組成物の硬化物を含み、領域(S)の断面方向の素材分布において、滑り剤(a)の含有率が51%以上となる領域を有する、反射防止フィルム、及び上記反射防止フィルムを簡便に製造することができる方法が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)