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1. (WO2017146102) DISPOSITIF ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
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N° de publication : WO/2017/146102 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/006615
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 22.02.2017
CIB :
A61L 15/00 (2006.01) ,A61K 9/70 (2006.01) ,A61L 27/00 (2006.01) ,A61L 31/04 (2006.01) ,A61L 33/06 (2006.01) ,B05D 7/24 (2006.01) ,B32B 27/30 (2006.01)
[IPC code unknown for A61L 15][IPC code unknown for A61K 9/70][IPC code unknown for A61L 27][IPC code unknown for A61L 31/04][IPC code unknown for A61L 33/06][IPC code unknown for B05D 7/24][IPC code unknown for B32B 27/30]
Déposants :
東レ株式会社 TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666, JP
Inventeurs :
北川瑠美子 KITAGAWA, Rumiko; JP
中村正孝 NAKAMURA, Masataka; JP
Données relatives à la priorité :
2016-03068722.02.2016JP
Titre (EN) DEVICE AND PRODUCTION METHOD FOR SAME
(FR) DISPOSITIF ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) デバイスおよびその製造方法
Abrégé :
(EN) A device that includes: a substrate; and a hydrophilic polymer layer that comprises a hydrophilic polymer that has a hydroxyl group. The hydrophilic polymer layer that has a hydroxyl group is adhered to at least one portion of the surface of the substrate. The hydrophilic polymer also includes an amide group. The liquid film retention time of the device is 15 seconds or longer. A device wherein the surface of a substrate has been hydrophilized, and a simple method for producing said device.
(FR) La présente invention concerne un dispositif qui comprend : un substrat ; et une couche de polymère hydrophile qui comprend un polymère hydrophile qui comporte un groupe hydroxyle. La couche de polymère hydrophile qui comporte un groupe hydroxyle est collé à au moins une partie de la surface du substrat. Le polymère hydrophile comprend en outre un groupe amide. Le temps de rétention de film liquide du dispositif est de 15 secondes ou plus. L’invention concerne en outre un dispositif dans lequel la surface d’un substrat a été hydrophilisée, et un procédé simple pour produire ledit dispositif.
(JA) 基材および水酸基を有する親水性ポリマーからなる親水性ポリマー層を含み、前記基材表面上の少なくとも一部に水酸基を有する親水性ポリマー層が固着したデバイスであって、前記親水性ポリマーがさらにアミド基を含み、かつ、デバイスの液膜保持時間が15秒以上である、デバイス。基材の表面が親水化されたデバイスおよびそれを簡便な方法により製造する方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)