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1. (WO2017146091) COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT, FILTRE OPTIQUE, STRATIFIÉ, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ÉLÉMENT D’IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, DISPOSITIF D’AFFICHAGE D’IMAGE, ET CAPTEUR INFRAROUGE
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N° de publication :    WO/2017/146091    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/006565
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 22.02.2017
CIB :
G03F 7/027 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01), G02B 5/22 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), H01L 31/0232 (2014.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI Kazutaka; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-035021 26.02.2016 JP
Titre (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, OPTICAL FILTER, LAMINATE, METHOD FOR FORMING PATTERN, SOLID STATE IMAGING ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE AND INFRARED RADIATION SENSOR
(FR) COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT, FILTRE OPTIQUE, STRATIFIÉ, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ÉLÉMENT D’IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, DISPOSITIF D’AFFICHAGE D’IMAGE, ET CAPTEUR INFRAROUGE
(JA) 感放射線性組成物、光学フィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a radiation-sensitive composition which exhibits good infrared radiation-shielding properties and which can form a pattern having excellent squareness. Also provided are an optical filter, a laminate, a method for forming a pattern, a solid-state imaging element, an image display device and an infrared radiation sensor. This radiation-sensitive composition contains a near infrared radiation absorber, a resin, a radical-polymerizable compound and a photoradical polymerization initiator, has a maximum absorption wavelength within the range of 700-1000 nm, and has a value of absorbance Amax / absorbance A550, which is the ratio of the absorbance Amax at the maximum absorption wavelength to the absorbance A550 at a wavelength of 550 nm, of 50-500, the resin contains an acid radical-containing resin, and the mass ratio of the radical-polymerizable compound to the acid group-containing resin is such that radical-polymerizable compound / acid group-containing resin = 0.3-0.7.
(FR)L’invention fournit une composition sensible à un rayonnement qui permet de former un motif de rectangularité excellente et de propriétés d’écran aux infrarouges satisfaisantes. L’invention fournit également un filtre optique, un stratifié, un procédé de formation de motif, un élément d’imagerie à semi-conducteurs, un dispositif d’affichage d’image, et un capteur infrarouge. Cette composition sensible à un rayonnement contient un agent d’absorption d’infrarouges, une résine, un composé polymérisable par voie radicalaire et un initiateur de polymérisation par voie photoradicalaire, et présente une longueur d’onde d’absorption maximale dans une plage de 700 à 1000nm. Le rapport absorbance Amax / absorbance A550 entre une absorbance Amax pour la longueur d’onde d’absorption maximale, et une absorbance A550 pour une longueur d’onde de 550nm, est compris entre 50 et 500. La résine contient une résine possédant un groupe acide. Le rapport massique du composé polymérisable par voie radicalaire et de la résine possédant un groupe acide, est tel que composé polymérisable par voie radicalaire / résine possédant un groupe acide = 0,3~0,7.
(JA)赤外線遮蔽性が良好で、矩形性に優れたパターンを形成可能な感放射線性組成物を提供する。また、光学フィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供する。この感放射線性組成物は、近赤外線吸収剤と、樹脂と、ラジカル重合性化合物と、光ラジカル重合開始剤とを含み、700~1000nmの範囲に極大吸収波長を有し、極大吸収波長における吸光度Amaxと、波長550nmにおける吸光度A550との比である吸光度Amax/吸光度A550が50~500であり、樹脂は酸基を有する樹脂を含み、ラジカル重合性化合物と酸基を有する樹脂との質量比が、ラジカル重合性化合物/酸基を有する樹脂=0.3~0.7である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)