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1. (WO2017145941) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT POUR PANNEAU D'AFFICHAGE

Pub. No.:    WO/2017/145941    International Application No.:    PCT/JP2017/005941
Publication Date: Fri Sep 01 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Sat Feb 18 00:59:59 CET 2017
IPC: G09F 9/00
G02F 1/1368
G09F 9/30
H01L 21/336
H01L 29/786
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA
シャープ株式会社
Inventors: SAITOH Takao
斉藤 貴翁
KANZAKI Yohsuke
神崎 庸輔
ITO Kazuatsu
伊東 一篤
KANEKO Seiji
金子 誠二
Title: PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT POUR PANNEAU D'AFFICHAGE
Abstract:
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat pour un panneau d'affichage, caractérisé en ce qu'il comprend une étape de formation de film conducteur destinée à former un film conducteur de façon à recouvrir à la fois un film d'isolation de gâchette (45A), etc. formé sur un substrat en verre et recouvrant une électrode de gâchette (37G) et un fil de gâchette (35G), et un film semiconducteur (42) formé sur un emplacement recouvrant l'électrode de gâchette (37G) sur le film d'isolation de gâchette (45A), etc.; une première étape de gravure destinée à former, par gravure de films conducteurs, un film conducteur (46S) pour une source connectée au film semiconducteur (42) et un film conducteur (46D) pour un drain connecté au film semiconducteur (42) ; une étape de formation de réserve destinée à former une réserve (53R) recouvrant le film semiconducteur (42), le film conducteur (46S) pour une source et le film conducteur (46D) pour un drain, exécutée après la première étape de gravure ; et une deuxième étape de gravure destinée à graver de façon amovible un film conducteur (51A) en utilisant la réserve (53R) comme masque, exécutée après l'étape de formation de réserve.