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1. (WO2017145924) DISPOSITIF D'IMPRESSION, SON PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE
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N° de publication : WO/2017/145924 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/005834
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 17.02.2017
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 33/72 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP
Inventeurs : MATSUOKA, Yoichi; JP
YAMAMOTO, Kiyohito; JP
AZUMA, Hisanobu; JP
TERASHIMA, Shigeru; JP
MAEDA, Toshihiro; JP
YONEKAWA, Masami; JP
EMOTO, Keiji; JP
NAKAGAWA, Kazuki; JP
Mandataire : OHTSUKA, Yasunori; JP
OHTSUKA, Yasuhiro; JP
TAKAYANAGI, Jiro; JP
KIMURA, Shuji; JP
Données relatives à la priorité :
2016-03631526.02.2016JP
2016-22537918.11.2016JP
2017-01891503.02.2017JP
Titre (EN) IMPRINT DEVICE, OPERATING METHOD FOR SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE
(FR) DISPOSITIF D'IMPRESSION, SON PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE
(JA) インプリント装置およびその動作方法ならびに物品製造方法
Abrégé : front page image
(EN) Provided is an imprint device that forms a pattern on a substrate (101) by curing imprint material in a state in which the imprint material on the substrate is in contact with a mold, wherein the imprint device is provided with: a substrate chuck (102) having a substrate holding area for holding the substrate; a peripheral member (113) disposed so as to surround the side surfaces of the substrate held by the substrate chuck; and a control unit for controlling a cleaning process for cleaning at least part of an area of the peripheral member using a cleaning member (170) that includes a charged unit. The cleaning process includes an operation for moving the cleaning member relative to the peripheral member in a state in which the charged unit faces the at least part of the area of the peripheral member so that particles in the area are adsorbed by the charged unit.
(FR) La présente invention porte sur un dispositif d'impression qui forme un motif sur un substrat (101) par durcissement d'une matière d'impression dans un état dans lequel la matière d'impression sur le substrat est en contact avec un moule, le dispositif d'impression comprenant : un mandrin pour substrat (102) ayant une zone de maintien de substrat destinée à soutenir le substrat ; un élément périphérique (113) disposé de façon à entourer les surfaces latérales du substrat maintenu par le mandrin pour substrat ; et une unité de commande destinée à commander un procédé de nettoyage destiné à nettoyer au moins une partie d'une zone de l'élément périphérique à l'aide d'un élément de nettoyage (170) qui comprend une unité chargée. Le procédé de nettoyage comprend une opération pour déplacer l'élément de nettoyage par rapport à l'élément périphérique dans un état dans lequel l'unité chargée est tournée vers ladite partie de la zone de l'élément périphérique, de sorte que des particules dans la zone sont adsorbées par l'unité chargée.
(JA) インプリント装置は、基板(101)の上のインプリント材に型を接触させた状態で該インプリント材を硬化させることによって該基板の上にパターンを形成する。インプリント装置は、基板を保持する基板保持領域を有する基板チャック(102)と、前記基板チャックによって保持される基板の側面を取り囲むように配置された周辺部材(113)と、帯電部を含むクリーニング部材(170)を使って前記周辺部材の少なくとも一部の領域をクリーニングするクリーニング処理を制御する制御部とを備える。前記クリーニング処理は、前記帯電部を前記周辺部材の少なくとも一部の領域に対向させた状態で前記クリーニング部材を前記周辺部材に対して相対的に移動させることによって前記領域のパーティクルを前記帯電部に吸着させる動作を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)