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1. (WO2017145747) MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ, MODULE DE SÉPARATION DE GAZ, DISPOSITIF DE SÉPARATION DE GAZ, ET PROCÉDÉ DE SÉPARATION DE GAZ
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N° de publication : WO/2017/145747 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/004465
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 08.02.2017
CIB :
B01D 71/64 (2006.01) ,B01D 53/22 (2006.01) ,B01D 69/02 (2006.01) ,B01D 69/10 (2006.01) ,B01D 69/12 (2006.01) ,C08G 73/10 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs : KITAMURA Tetsu; JP
INOMATA Sotaro; JP
YUMOTO Masatoshi; JP
HARADA Motoi; JP
Mandataire : NAKASHIMA Junko; JP
YONEKURA Junzo; JP
MURAKAMI Yasunori; JP
Données relatives à la priorité :
2016-03642426.02.2016JP
Titre (EN) GAS SEPARATION MEMBRANE, GAS SEPARATION MODULE, GAS SEPARATION DEVICE, AND GAS SEPARATION METHOD
(FR) MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ, MODULE DE SÉPARATION DE GAZ, DISPOSITIF DE SÉPARATION DE GAZ, ET PROCÉDÉ DE SÉPARATION DE GAZ
(JA) ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法
Abrégé : front page image
(EN) Provided are: a gas separation membrane which is capable of achieving both excellent gas permeability and excellent gas separation selectivity, even if used under high-pressure conditions, and which is capable of maintaining excellent gas separation selectivity, even if brought into contact with impurity components such as toluene; a gas separation module using said gas separation membrane; a gas separation device; and a gas separation method. This gas separation membrane is provided with a gas separation layer including a polyimide compound. The polyimide compound includes repeating units represented by formula (I). Rf1, Rf4, Rf5, and Rf8 represent alkyl groups. Rf2, Rf3, Rf6, Rf7, and Rf9-Rf16 represent hydrogen atoms or substituents, and at least one is a specific polar group. A represents a single bond or a divalent linking group having a specific structure. R represents a mother nucleus having a specific structure.
(FR) L'invention concerne une membrane de séparation de gaz qui permet d'obtenir à la fois une excellente perméabilité aux gaz et une excellente sélectivité de séparation de gaz, même si elle est utilisée dans des conditions de haute pression, et qui est apte à maintenir une excellente sélectivité de séparation de gaz, même si elle est amenée en contact avec des éléments d'impureté tels que le toluène ; un module de séparation de gaz utilisant ladite membrane de séparation de gaz ; un dispositif de séparation de gaz ; et un procédé de séparation de gaz. Cette membrane de séparation de gaz comprend une couche de séparation de gaz comprenant un composé de polyimide. Le composé de polyimide comprend des unités de répétition représentées par la formule (I). Rf1, Rf4, Rf5 et Rf8 représentent des groupes alkyle. Rf2, Rf3, Rf6, Rf7 et Rf9-Rf16 représentent des atomes d'hydrogène ou des substituants, et au moins un est un groupe polaire spécifique. A représente une liaison simple ou un groupe de liaison divalent ayant une structure spécifique. R représente un noyau mère ayant une structure spécifique.
(JA) 高圧条件下の使用においても優れたガス透過性と優れたガス分離選択性の両立を高度なレベルで実現し、且つ、トルエン等の不純物成分と接触してもガス分離選択性を良好に維持することができるガス分離膜、それを用いたガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法を提供する。 ガス分離膜は、ポリイミド化合物を含有してなるガス分離層を有し、上記ポリイミド化合物が、下記式(I)で表される繰り返し単位を含む。 Rf1、Rf4、Rf5及びRf8はアルキル基を示す。Rf2、Rf3、Rf6、Rf7及びRf9~Rf16は水素原子又は置換基を示し、少なくとも1つは特定の極性基である。Aは単結合又は特定構造の2価の連結基を示す。Rは特定構造の母核を示す。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)