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1. (WO2017145569) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’AMIDE D'ACIDE N-VINYLE CARBOXYLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/145569    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/001214
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 16.01.2017
CIB :
C07C 231/24 (2006.01), C07C 231/12 (2006.01), C07C 233/05 (2006.01)
Déposants : SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518 (JP)
Inventeurs : TANAKA Naoyuki; (JP)
Mandataire : SHIGA Masatake; (JP).
SUZUKI Mitsuyoshi; (JP).
ARA Norihiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-031378 22.02.2016 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING N-VINYL CARBOXYLIC ACID AMIDE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’AMIDE D'ACIDE N-VINYLE CARBOXYLIQUE
(JA) N-ビニルカルボン酸アミドの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for producing an N-vinyl carboxylic acid amide, the method focusing on unsaturated aldehydes that are contained as impurities generated during a reaction. The method for producing an N-vinyl carboxylic acid amide is characterized by comprising a step for controlling the contained amount of unsaturated aldehydes in the N-vinyl carboxylic acid amide to be not more than 20 mass ppm.
(FR)L’invention fournit un procédé de fabrication d’amide d'acide N-vinyle carboxylique selon lequel l’attention est portée sur des aldéhydes insaturés contenues en tant qu’impuretés générées par une réaction. Plus précisément, l’invention concerne un procédé de fabrication d’amide d'acide N-vinyle carboxylique qui est caractéristique en ce qu’il présente une étape au cours de laquelle la teneur en aldéhydes insaturés dans un amide d'acide N-vinyle carboxylique, est régulée de manière à être inférieure ou égale à 20ppm en masse.
(JA)反応により生成する不純物として含まれる不飽和アルデヒド類に着目したN-ビニルカルボン酸アミドの製造方法を提供すること。N-ビニルカルボン酸アミドの製造法において、N-ビニルカルボン酸アミド中の不飽和アルデヒド類の含量を20質量ppm以下にコントロールする工程を有することを特徴とするN-ビニルカルボン酸アミドの製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)