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1. (WO2017145553) MATÉRIAU ADSORBANT ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION
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N° de publication :    WO/2017/145553    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/000909
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 13.01.2017
CIB :
G01N 30/88 (2006.01), B01D 15/08 (2006.01), B01J 20/28 (2006.01), B01J 20/281 (2006.01), B01J 20/34 (2006.01), C07K 1/22 (2006.01), G01N 30/02 (2006.01), G01N 30/26 (2006.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventeurs : MARUYAMA Masashi; (JP).
YAMASHITA Nanae; (JP).
YOSHIDA Hiroshi; (JP).
SHIBUYA Keisuke; (JP)
Mandataire : TODA Yuji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-033738 25.02.2016 JP
Titre (EN) ADSORBENT MATERIAL AND PURIFICATION METHOD
(FR) MATÉRIAU ADSORBANT ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION
(JA) 吸着材及び精製方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of desorbing a target substance under mild elution conditions in affinity purification with a low-molecular-weight ligand. In the present invention, a polar auxiliary group is introduced to a site adjacent to the low-molecular-weight ligand to perturb the pKa value of a functional group in the low-molecular-weight ligand, thereby ionizing the low-molecular-weight ligand under mild pH conditions.
(FR)La présente invention a pour objet de désorber une substance cible dans des conditions d'élution douces dans la purification par affinité avec un ligand à faible poids moléculaire. Selon l'invention, un groupe auxiliaire polaire est introduit dans un site adjacent au ligand à faible poids moléculaire pour perturber la valeur de pKa d'un groupe fonctionnel dudit ligand, ce qui ionise le ligand à faible poids moléculaire dans des conditions de pH douces.
(JA)低分子リガンドを用いたアフィニティ精製において温和な溶出条件で標的物質を脱離することが課題である。本発明では、低分子リガンドの近傍に極性補助基を導入することで、低分子リガンド中の官能基のpKaに摂動を与え、温和なpH条件にて低分子リガンドをイオン化する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)