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1. (WO2017145371) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE GRAVURE IONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2017/145371 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/055868
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 26.02.2016
CIB :
H01J 37/30 (2006.01) ,H01J 37/20 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
20
Moyens de support ou de mise en position de l'objet ou du matériau; Moyens de réglage de diaphragmes ou de lentilles associées au support
Déposants :
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventeurs :
岩谷 徹 IWAYA Toru; JP
高須 久幸 TAKASU Hisayuki; JP
高堀 栄 KOUBORI Sakae; JP
Mandataire :
平木 祐輔 HIRAKI Yusuke; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ION MILLING DEVICE AND ION MILLING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE GRAVURE IONIQUE
(JA) イオンミリング装置、及びイオンミリング方法
Abrégé :
(EN) The present invention provides a machining technique allowing desired machining to be carried out while minimizing the possibility of redeposition occurring on a machined surface. In order to solve this problem, this ion milling device comprises an ion source (1) emitting an ion beam, a sample holding part holding a sample, and a sample sliding mechanism (70) causing the sample holding part to slide in a direction containing a normal direction component of the ion beam axis.
(FR) La présente invention concerne une technique d'usinage qui permettrait d'effectuer l'usinage souhaité tout en réduisant à un minimum la possibilité qu'un nouveau dépôt ne survienne sur une surface usinée. Afin de résoudre ce problème, un dispositif de gravure ionique selon l'invention comprend une source d'ions (1) émettant un faisceau d'ions, une partie porte-échantillon tenant un échantillon et un mécanisme de coulissement d'échantillon (70) faisant glisser la partie porte-échantillon dans une direction contenant une composante de direction normale à l'axe du faisceau d'ions.
(JA) 加工面にリデポジションが発生する可能性を抑えつつ、所望の加工内容が得られるようにする加工技術を提供するものである。当該課題を解決するために、本発明によるイオンミリング装置は、イオンビームを発するイオン源(1)と、試料を保持する試料保持部と、イオンビームの軸の法線方向成分を含む方向に試料保持部をスライド移動させる試料スライド移動機構(70)と、を有している。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)