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1. (WO2017145366) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
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N° de publication :    WO/2017/145366    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/055854
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 26.02.2016
CIB :
H05G 2/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventeurs : SUZUKI Toru; (JP)
Mandataire : MATSUURA Kenzo; Matsuura & Associates, P.O. Box 176, Shinjuku Sumitomo Bldg. 23F, 6-1, Nishi-shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630223 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Abrégé : front page image
(EN)An extreme ultraviolet light generation device of the present invention is provided with: a target supply unit that outputs, along a track, a plurality of targets toward a plasma generation region; a laser device that outputs laser light toward the plasma generation region; an image pickup unit, which has the image pickup direction non-orthogonal and non-parallel to the target, picks up an image of a region including the plasma generation region, and outputs image data; an illuminating unit that outputs illuminating light to the region including the plasma generation region; an image pickup position changing unit that changes, in the image pickup direction, the image pickup position of the image pickup unit; a moving amount determining unit that determines the moving amount of the image pickup position on the basis of the image data; and a control unit that controls the image pickup position changing unit on the basis of the moving amount thus determined by the moving amount determining unit.
(FR)La présente invention porte sur un dispositif de génération de lumière ultraviolette extrême (EUV) qui est pourvu : d'une unité d'alimentation en cibles qui fournit, le long d'une piste, une pluralité de cibles vers une région de génération de plasma ; d'un dispositif laser qui émet une lumière laser vers la région de génération de plasma ; d'une unité de prise de vue, dont la direction de prise de vue n'est pas perpendiculaire ni parallèle à la cible, qui prend une vue d'une région comprenant la région de génération de plasma et qui fournit des données d'image ; d'une unité d'éclairage qui émet une lumière d'éclairage vers la région comprenant la région de génération de plasma ; d'une unité de changement de position de prise de vue qui change, dans la direction de prise de vue, la position de prise de vue de l'unité de prise de vue ; d'une unité de détermination de la grandeur du déplacement qui détermine la grandeur du déplacement de la position de prise de vue sur la base des données d'image ; d'une unité de commande qui commande l'unité de changement de position de prise de vue sur la base de la quantité de déplacement ainsi déterminée par l'unité de détermination de quantité de déplacement.
(JA)極端紫外光生成装置は、プラズマ生成領域に向けて、複数のターゲットを軌道に沿って出力するターゲット供給部と、プラズマ生成領域に向けてレーザ光を照射するレーザ装置と、撮像方向が軌道に対して非直交でかつ非平行であり、プラズマ生成領域を含む領域を撮像して画像データを出力する撮像部と、プラズマ生成領域を含む領域に照明光を出力する照明部と、撮像部の撮像位置を撮像方向に沿って変更する撮像位置変更部と、画像データに基づき、撮像位置の移動量を決定する移動量決定部と、移動量決定部により決定された移動量に基づいて撮像位置変更部を制御する制御部と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)