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1. (WO2017144591) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR PRÉPARER DES GRANULÉS DE SILICIUM POLYCRISTALLIN
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N° de publication :    WO/2017/144591    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/054177
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 23.02.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    31.05.2017    
CIB :
B01J 8/18 (2006.01), C01B 33/027 (2006.01)
Déposants : WACKER CHEMIE AG [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4 81737 München (DE)
Inventeurs : PEDRON, Simon; (DE)
Mandataire : POTTEN, Holger; (DE).
BITTERLICH, Bianca; (DE).
BUDCZINSKI, Angelika; (DE).
DEFFNER-LEHNER, Maria; (DE).
EGE, Markus; (DE).
FRÄNKEL, Robert; (DE).
FRITZ, Helmut; (DE).
MIESKES, Klaus; (DE).
RIMBÖCK, Karl-Heinz; (DE).
SCHUDERER, Michael; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2016 202 991.6 25.02.2016 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON POLYKRISTALLINEM SILICIUMGRANULAT
(EN) PROCESS AND APPARATUS FOR PRODUCTION OF GRANULAR POLYCRYSTALLINE SILICON
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR PRÉPARER DES GRANULÉS DE SILICIUM POLYCRISTALLIN
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von polykristallinem Siliciumgranulat in einem Wirbelschichtreaktor umfassend ein Reaktorrohr und eine Heizvorrichtung außerhalb des Reaktorrohres, bei dem im Reaktorrohr Silicium-Keimpartikel (Seed) mittels einer Gasströmung in einer Wirbelschicht, die mittels der Heizvorrichtung aufgeheizt wird, fluidisiert werden und durch Zugabe eines siliciumhaltigen Reaktionsgases zur Wirbelschicht mittels Pyrolyse polykristallines Silicium auf den heißen Silicium-Keimpartikeln abgeschieden und das so entstehende polykristalline Siliciumgranulat aus dem Reaktorrohr entfernt wird, wobei das Reaktorrohr einen Wirbelschichtbereich und einen unbeheizten Bereich oberhalb der Wirbelschicht aufweist und das Reaktorrohr an seiner Innenwand eine Silicium-Beschichtung aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der unbeheizte Bereich des Reaktorrohres oberhalb der Wirbelschicht eine Wandtemperatur aufweist, die bewirkt, dass die Silicium-Beschichtung im gesamten Reaktorrohr eine maximale Silicium-Schichtdicke aufweist, die zur durchschnittlichen Silicium-Schichtdicke im Wirbelschichtbereich nach einer Betriebsdauer von 15 bis 500 Tagen in einem Verhältnis von 7:1 bis 1,5:1 steht.
(EN)The invention relates to a process for producing granular polycrystalline silicon in a fluidized bed reactor comprising a reactor tube and a heating apparatus outside the reactor tube, in which silicon seed particles are fluidized in the reactor tube by means of a gas flow in a fluidized bed which is heated up by means of the heating apparatus, and polycrystalline silicon is deposited by means of pyrolysis on the hot silicon seed particles by addition of a silicon-containing reaction gas to the fluidized bed, and the granular polycrystalline silicon thus formed is removed from the reactor tube, wherein the reactor tube has a fluidized bed region and an unheated region above the fluidized bed, and the reactor tube has a silicon coating on its inner wall, characterized in that the unheated region of the reactor tube above the fluidized bed has a wall temperature that has the effect that the silicon coating over the entire reactor tube has a maximum silicon layer thickness in a ratio of 7:1 to 1.5:1 to the average silicon layer thickness in the fluidized bed region after an operating time of 15 to 500 days.
(FR)L'invention concerne un procédé pour préparer des granulés de silicium polycristallin dans un réacteur à lit fluidisé comprenant un tube de réacteur et un dispositif chauffant situé en dehors du tube de réacteur, procédé selon lequel des particules de germe de silicium (Seed) sont fluidisées au moyen d'un flux gazeux dans un lit fluidisé, chauffé au moyen du dispositif chauffant, et du silicium polycristallin est déposé par pyrolyse sur les particules de germe de silicium, par addition d'un gaz de réaction contenant du silicium et les granulés de silicium polycristallin ainsi obtenus sont éloignés du tube du réacteur, ledit tube de réacteur présentant une zone de lit fluidisé et une zone non chauffée située au-dessus du lit fluidisé et le tube de réacteur présentant sur sa paroi intérieure un revêtement silicium, ledit procédé étant caractérisé en ce que la zone non chauffée du tube de réacteur présente au-dessus du lit fluidisé une température de paroi faisant que le revêtement silicium présente dans l'ensemble du tube de réacteur une épaisseur de couche silicium maximale qui se situe dans un rapport de 7:1 à 1,5:1 par rapport à l'épaisseur de couche silicium moyenne dans la zone de lit fluidisé après une période de fonctionnement allant de 15 à 500 jours.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)