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1. (WO2017144277) SYSTÈME DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2017/144277 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/052806
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 09.02.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
677
pour le transport, p.ex. entre différents postes de travail
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
VERVOORDELDONK, Michael, Johannes; NL
LOF, Joeri; NL
Mandataire :
RAS, Michael; NL
Données relatives à la priorité :
16157034.624.02.2016EP
Titre (EN) SUBSTRATE HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) SYSTÈME DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) There is provided a substrate handling system (200) for handling a substrate (W), comprising a holder (202), a rotation device (206) and a mover (204). The holder is for holding the substrate. The rotation device is for rotating the holder around an axis (208) perpendicular to a plane. The mover is for moving the holder along a path in the plane relative to the axis. Further, there is provided a lithographic apparatus comprising the substrate handling system. The substrate handling system may comprise a coupling device (210) arranged to couple the holder to one of the mover and the rotation device in a first situation. The coupling device may be arranged to decouple the holder from the one of the mover and the rotation device in a second situation.
(FR) La présente invention concerne un système de manipulation de substrat (200) pour traiter un substrat (W), comprenant un support (202), un dispositif de rotation (206) et un moyen de déplacement (204). Le support est destiné à maintenir le substrat. Le dispositif de rotation est destiné à faire tourner le support autour d'un axe (208) perpendiculairement à un plan. Le moyen de déplacement est destiné à déplacer le support le long d'un chemin dans le plan par rapport à l'axe. En outre, il est prévu un appareil lithographique comprenant le système de manipulation de substrat. Le système de manipulation de substrat peut comprendre un dispositif de couplage (210) agencé pour coupler le support à l'un du moyen de déplacement et du dispositif de rotation dans une première situation. Le dispositif de couplage peut être agencé pour découper le support de l'un du moyen de déplacement et du dispositif de rotation dans une seconde situation.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)