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1. (WO2017142513) DÉPÔT ÉLECTROCHIMIQUE D’ÉLÉMENTS EN MILIEU AQUEUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2017/142513 N° de la demande internationale : PCT/US2016/018050
Date de publication : 24.08.2017 Date de dépôt international : 16.02.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 23.05.2017
CIB :
C25D 3/44 (2006.01) ,C25D 9/08 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
3
Dépôts de métaux par voie électrolytique; Bains utilisés
02
à partir de solutions
42
de métaux légers
44
Aluminium
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
9
Revêtements électrolytiques autrement qu'avec des métaux
04
avec des matières inorganiques
08
par des procédés cathodiques
Déposants :
LUMISHIELD TECHNOLOGIES, INCORPORATED [US/US]; 1816 Parkway View Drive Pittsburgh, Pennsylvania 15205, US
Inventeurs :
NULWALA, Hunaid; US
WATKINS, John, D.; US
ZHOU, Xu; US
Mandataire :
CUBERT, Jeremy A.; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF ELEMENTS IN AQUEOUS MEDIA
(FR) DÉPÔT ÉLECTROCHIMIQUE D’ÉLÉMENTS EN MILIEU AQUEUX
Abrégé :
(EN) The disclosure relates to a method for the electrodeposition of at least one metal onto a surface of a conductive substrate. In some embodiments, the electrodeposition is conducted at a temperature from about 10°C to about 70°C, about 0.5 atm to about 5 atm, in an atmosphere comprising oxygen. In some embodiments, the method comprises electrodepositing the at least one metal via electrochemical reduction of a metal complex dissolved in a substantially aqueous medium.
(FR) La présente invention concerne un procédé d’électrodéposition d’au moins un métal sur une surface d’un substrat conducteur. Dans certains modes de réalisation, l’électrodéposition est conduite à une température d’environ 10 °C à environ 70 °C, environ 0,5 atm à environ 5 atm, dans une atmosphère comprenant de l’oxygène. Dans certains modes de réalisation, le procédé comprend l’électrodéposition de l’au moins un métal par réduction électrochimique d’un complexe métallique dissous dans un milieu sensiblement aqueux.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)