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1. (WO2017142481) PLATE-FORMES DE POSITIONNEMENT DE GRANDE PRÉCISION
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N° de publication : WO/2017/142481 N° de la demande internationale : PCT/SG2017/050069
Date de publication : 24.08.2017 Date de dépôt international : 16.02.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 11.12.2017
CIB :
H02N 15/00 (2006.01) ,H02K 41/02 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
02
PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
N
MACHINES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
15
Dispositifs de maintien ou de lévitation utilisant l'attraction ou la répulsion magnétique, non prévus ailleurs
H ÉLECTRICITÉ
02
PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
K
MACHINES DYNAMO-ÉLECTRIQUES
41
Systèmes de propulsion dans lesquels un élément rigide se déplace le long d'une piste sous l'effet de l'action dynamo-électrique s'exerçant entre cet élément et un flux magnétique se propageant le long de la piste
02
Moteurs linéaires; Moteurs sectionnels
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
68
pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement
Déposants :
AGENCY FOR SCIENCE, TECHNOLOGY AND RESEARCH [SG/SG]; 1 Fusionopolis Way, #20-10 Connexis North Tower, Singapore 138632, SG
Inventeurs :
TEO, Tat Joo Daniel; SG
YANG, Guilin; SG
Mandataire :
SPRUSON & FERGUSON (ASIA) PTE LTD; P.O. Box 1531 Robinson Road Post Office Singapore 903031, SG
Données relatives à la priorité :
10201601134V16.02.2016SG
Titre (EN) HIGH PRECISION LOCALIZING PLATFORMS
(FR) PLATE-FORMES DE POSITIONNEMENT DE GRANDE PRÉCISION
Abrégé :
(EN) According to various embodiments, a high precision localizing platform may be provided. The high precision localizing platform may include: a base comprising a plurality of coils, each coils configured to provide a magnetic field with at least one of a north pole or a south pole pointing at least substantially in a first direction; an outer platform comprising a plurality of magnets and configured to move along a second direction at least substantially perpendicular to the first direction when actuated by at least a first subset of the coils of the base; an inner platform comprising a plurality of magnets and configured to move along the second direction when actuated by at least a second subset of the coils of the base; and an elastic coupling configured to couple the inner platform to the outer platform, wherein the elastic coupling is configured to restrain movement of the inner platform in the first direction in accordance with a first stiffness and to provide a second stiffness along the second direction, wherein the first stiffness is higher than the second stiffness.
(FR) Selon divers modes de réalisation, l'invention peut concerner une plate-forme de positionnement de grande précision. La plate-forme de positionnement de grande précision peut comprendre : une base comportant une pluralité de bobines, chaque bobine étant configurée pour produire un champ magnétique avec un pôle nord et/ou un pôle sud dirigé au moins sensiblement dans une première direction; une plate-forme extérieure comportant une pluralité d'aimants et configurée pour se déplacer dans une deuxième direction au moins sensiblement perpendiculaire à la première direction lorsqu'elle est actionnée par au moins un premier sous-ensemble des bobines de la base; une plate-forme intérieure comportant une pluralité d'aimants et configurée pour se déplacer dans la deuxième direction lorsqu'elle est actionnée par au moins un deuxième sous-ensemble des bobines de la base; un raccord élastique configuré pour relier la plate-forme intérieure à la plate-forme extérieure, le raccord élastique étant conçu pour restreindre le mouvement de la plate-forme intérieure dans la première direction avec une première rigidité et pour présenter une deuxième rigidité dans la deuxième direction, la première rigidité étant supérieure à la deuxième rigidité.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)