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1. (WO2017142401) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE PRÉVENTION D'EXPOSITION PÉRIPHÉRIQUE DE SUBSTRAT
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N° de publication : WO/2017/142401 N° de la demande internationale : PCT/NL2017/050088
Date de publication : 24.08.2017 Date de dépôt international : 15.02.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
KULICKE & SOFFA LITEQ B.V. [NL/NL]; Esp 314 5633 AE Eindhoven, NL
Inventeurs :
VERMEER, Adrianus Johannes Petrus Maria; NL
Mandataire :
JANSEN, C.M.; NL
Données relatives à la priorité :
201627116.02.2016NL
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR PREVENTING PERIPHERAL EXPOSURE OF A SUBSTRATE
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE PRÉVENTION D'EXPOSITION PÉRIPHÉRIQUE DE SUBSTRAT
Abrégé :
(EN) A lithographic apparatus (10) and method for preventing exposure of a peripheral portion (P) of a substrate (S). An edge mask (M) has a radial concave edge (E) that extends over less than half a circle arch. The edge mask (M) is connected to a mask carrier (4) that circumnavigates the projection system (2) to adjust a tangential coordinate (Φ) and a radial coordinate (R) of the edge mask (M) with respect to the optical axis (A) of the projection system (2) for inserting the edge mask (M) at a variable distance into the beam of radiation (B). The tangential and radial positions (Φ,R) of the edge mask (M) are coordinated with a changing position (X,Y) of the substrate (S) to prevent exposure of the peripheral portion (P) of the substrate (S) during exposure of the target region (T).
(FR) L'invention concerne un appareil lithographique (10) et un procédé pour empêcher l'exposition d'une partie périphérique (P) d'un substrat (S). Un masque de bord (M) a un bord concave radial (E) qui s'étend sur moins de la moitié d'un arc de cercle. Le masque de bord (M) est relié à un support de masque (4) qui contourne le système de projection (2) pour régler une coordonnée tangentielle (Φ) et une coordonnée radiale (R) du masque de bord (M) par rapport à l'axe optique (A) du système de projection (2) afin d'insérer le masque de bord (M) à une distance variable dans le faisceau de rayonnement (B). Les positions tangentielle et radiale (Φ, R) du masque de bord (M) sont coordonnées avec une position de changement (X, Y) du substrat (S) pour empêcher l'exposition de la partie périphérique (P) du substrat (S) pendant l'exposition de la région cible (T).
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)