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1. (WO2017141931) ADSORBANT DE CÉSIUM ET/OU DE STRONTIUM
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N° de publication : WO/2017/141931 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/005404
Date de publication : 24.08.2017 Date de dépôt international : 15.02.2017
CIB :
B01J 20/10 (2006.01) ,B01J 20/28 (2006.01) ,B01J 20/30 (2006.01) ,C01B 33/20 (2006.01) ,G21F 9/12 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
20
Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation
02
contenant une substance inorganique
10
contenant de la silice ou un silicate
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
20
Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation
28
caractérisées par leur forme ou leurs propriétés physiques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
20
Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation
30
Procédés de préparation, de régénération ou de réactivation
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
20
Silicates
G PHYSIQUE
21
PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
F
PROTECTION CONTRE LES RAYONS X, LES RAYONS GAMMA, LES RADIATIONS CORPUSCULAIRES OU LE BOMBARDEMENT PAR DES PARTICULES; TRAITEMENT DES MATÉRIAUX CONTAMINÉS PAR LA RADIOACTIVITÉ; DISPOSITIONS POUR LA DÉCONTAMINATION
9
Traitement des matériaux contaminés par la radioactivité; Dispositions à cet effet pour la décontamination
04
Traitement des liquides
06
Traitements
12
par absorption; par adsorption; par échange d'ions
Déposants :
日本化学工業株式会社 NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 東京都江東区亀戸9丁目11番1号 11-1, Kameido 9-chome, Koto-ku, Tokyo 1368515, JP
Inventeurs :
木ノ瀬 豊 KINOSE Yutaka; JP
宮部 慎介 MIYABE Shinsuke; JP
野口 英治 NOGUCHI Eiji; JP
坂本 剛 SAKAMOTO Takeshi; JP
杉原 かおり SUGIHARA Kaori; JP
Données relatives à la priorité :
2016-02753317.02.2016JP
Titre (EN) CESIUM AND/OR STRONTIUM ADSORBENT
(FR) ADSORBANT DE CÉSIUM ET/OU DE STRONTIUM
(JA) セシウム又は/及びストロンチウム吸着剤
Abrégé :
(EN) Provided is an adsorbent that has the ability to adsorb cesium and strontium, and in particular can efficiently adsorb strontium from a medium such as water containing a low concentration of strontium. Also provided is an adsorbent manufacturing method that is suitable for the manufacture of said adsorbent. This cesium and/or strontium adsorbent is a strontium adsorbent that includes a group 5 element M-containing crystalline silicotitanate, in which a crystalline silicotitanate expressed by the general formula A2Ti2O3(SiO4)∙nH2O (where A indicates one or two types of alkali element selected from Na and K, and n indicates a number from 0 to 2) contains a group 5 element M, wherein, when X-ray diffraction measurement is performed with a diffraction angle (2θ) range of 5° to 80° and using Cu-Kα as an X-ray source, the width at half height of a main peak within 2θ=11° to 12° is 0.320° or less, and no peak is observed in the range 2θ=29° to 30°.
(FR) La présente invention concerne un adsorbant qui a la capacité d’adsorber le césium et le strontium et, en particulier, peut efficacement absorber le strontium à partir d’un milieu tel que de l'eau contenant une faible concentration de strontium. L'invention concerne en outre un procédé de fabrication d'adsorbant qui est adapté pour la fabrication dudit adsorbant. Cet adsorbant de césium et/ou strontium est un adsorbant de strontium qui comprend un silicotitanate cristallin contenant un élément M du groupe 5 dans lequel un silicotitanate cristallin représenté par la formule générale A2Ti2O3(SiO4)∙nH2O (où A désigne un ou deux types d'élément alcalin choisi parmi Na et K, et n désigne un nombre de 0 à 2) contient un élément M du groupe 5 lorsque la mesure de diffraction des rayons X est effectuée avec un angle de diffraction (2θ) de 5° à 80° et en utilisant Cu-Kα en tant que source de rayons X, la largeur à mi-hauteur d'un pic maximal dans 2θ = 11° à 12° étant de 0,320° ou moins, et aucun pic est observé dans la plage de 2θ = 29° à 30°.
(JA) セシウム及びストロンチウムの吸着性能を有し、特に、ストロンチウムを低濃度で含有する水等の媒体から、ストロンチウムを効率よく吸着できる吸着剤、及び該吸着剤の製造に好適な吸着剤の製造方法を提供すること。 本発明のセシウム又は/及びストロンチウム吸着剤は、一般式;ATi(SiO)・nHO(式中、AはNa及びKから選ばれる1種又は2種のアルカリ元素を示す。nは0以上2以下の数を示す。)で表される結晶性シリコチタネートに第5族元素Mが含有されている第5族元素M含有結晶性シリコチタネートを含むストロンチウム吸着剤であって、2θ=11°以上12°以下のメーンピークの半値幅が0.320°以下で、且つCu-KαをX線源に用いて回折角(2θ)が5°以上80°以下の範囲でX線回析測定したときに、2θ=29°以上30°以下の範囲にピークが観察されない。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)