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1. (WO2017141756) COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS

Pub. No.:    WO/2017/141756    International Application No.:    PCT/JP2017/004281
Publication Date: Fri Aug 25 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Tue Feb 07 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/004
Applicants: JSR CORPORATION
JSR株式会社
Inventors: KASAHARA Kazuki
笠原 一樹
Title: COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS
Abstract:
L'invention concerne une composition sensible à un rayonnement contenant des particules comportant un oxyde métallique en tant que constituant principal, et un générateur de base sensible à un rayonnement, la teneur en atomes métalliques par rapport à la quantité totale d'atomes métalliques et d'atomes semi-métalliques de la composition étant supérieure ou égale à 50 % at. Les atomes métalliques constituant l'oxyde métallique peuvent comprendre du zirconium, du hafnium, du chrome, du nickel, du cobalt, de l'étain, de l'indium, du titane, du ruthénium, du tantale, du tungstène, du fer, du cuivre, du zinc, de l'aluminium, du gallium, du thallium, du bismuth, ou une combinaison de ceux-ci. La teneur en générateur de base sensible à un rayonnement par rapport au total des particules solides de la composition est de préférence située dans la plage allant de 0,5 à 50 % en masse. La dimension moyenne de particules des particules est de préférence inférieure ou égale à 20 nm. Le présent procédé de formation de motifs comprend une étape consistant à former un film par revêtement d'un substrat avec la composition sensible à un rayonnement susmentionnée, une étape consistant à exposer le film et une étape consistant à développer le film exposé.