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1. (WO2017141738) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2017/141738    International Application No.:    PCT/JP2017/004036
Publication Date: Fri Aug 25 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Sat Feb 04 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/027
B05C 9/10
B05D 3/06
H01L 21/677
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: WAJIKI, Takehiro
和食 雄大
MIYAGI, Tadashi
宮城 聡
MITSUHASHI, Tsuyoshi
三橋 毅
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract:
Dans ce dispositif de traitement de substrat, une élimination de charge de substrat est effectuée par un dispositif d'élimination de charge disposé dans une partie de chauffage. Dans le dispositif d'élimination de charge OWE, parmi une partie de maintien (434) maintenant le substrat W et une partie émettrice (300) permettant d'émettre des rayons ultraviolets du vide, au moins une se déplace dans une direction par rapport à l'autre. Ainsi, une surface du substrat est exposée aux rayons ultraviolets du vide émis par la partie émettrice. L'élimination de charge est achevée en exposant l'intégralité de ladite surface du substrat aux rayons ultraviolets du vide. Ensuite, le substrat qui a subi l'élimination de charge est transporté vers une unité de traitement de revêtement dans une partie de traitement de revêtement. Dans l'unité de traitement de revêtement, un film de solution de traitement est formé sur ladite surface du substrat qui a subi l'élimination de charge.