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1. (WO2017141734) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM SEC, PRODUIT DURCI, CARTE DE CIRCUITS IMPRIMÉS ET GÉNÉRATEUR DE PHOTOBASE
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N° de publication : WO/2017/141734 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/004015
Date de publication : 24.08.2017 Date de dépôt international : 03.02.2017
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,C07C 205/56 (2006.01) ,C07D 233/58 (2006.01) ,C07D 487/04 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,H05K 3/28 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
205
Composés contenant des groupes nitro liés à un squelette carboné
49
le squelette carboné étant substitué de plus par des groupes carboxyle
56
ayant des groupes nitro liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons et des groupes carboxyle liés à des atomes de carbone acycliques du squelette carboné
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
233
Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles
54
comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
56
avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle
58
avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes d'azote du cycle
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
487
Composés hétérocycliques contenant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes dans le système condensé, non prévus par les groupes C07D451/-C07D477/187
02
dans lesquels le système condensé contient deux hétérocycles
04
Systèmes condensés en ortho
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
22
Traitement secondaire des circuits imprimés
28
Application de revêtements de protection non métalliques
Déposants :
太陽ホールディングス株式会社 TAIYO HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 埼玉県比企郡嵐山町大字大蔵388番地 388, Oaza Okura, Ranzan-machi, Hiki-gun, Saitama 3550222, JP
Inventeurs :
郭 揚眉 GUO Yangmei; JP
三輪 崇夫 MIWA Takao; JP
有光 晃二 ARIMITSU Koji; JP
岡安 克起 OKAYASU Katsuki; JP
Mandataire :
本多 一郎 HONDA Ichiro; JP
Données relatives à la priorité :
2016-02735416.02.2016JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, DRY FILM, CURED PRODUCT, PRINTED CIRCUIT BOARD, AND PHOTOBASE GENERATOR
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM SEC, PRODUIT DURCI, CARTE DE CIRCUITS IMPRIMÉS ET GÉNÉRATEUR DE PHOTOBASE
(JA) 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、プリント配線板および光塩基発生剤
Abrégé :
(EN) Provided are a photosensitive resin composition having excellent sensitivity, a dry film having a resin layer obtained from the composition, a cured product of the composition or the dry film resin layer, a printed circuit board having the cured product, and a photobase generator having excellent sensitivity. The photosensitive resin composition and the like are characterized in comprising an ion-type photobase generator that contains a carboxylic acid and a base and is represented by general formula (1). (In formula (1), R1 through R4 and X1 and X2 are each independently a hydrogen atom or substitution group, at least one of X1 and X2 is an electron-attracting group, Y is an electron-releasing group, and B is a base.)
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible ayant une excellente sensibilité, un film sec comportant une couche de résine obtenue à partir de la composition, un produit durci de la composition ou de la couche de résine de film sec, une carte de circuits imprimés comportant le produit durci, et un générateur de photobase ayant une excellente sensibilité. La composition de résine photosensible, et analogue, est caractérisée en ce qu'elle comprend un générateur de photobase de type ionique qui contient un acide carboxylique et une base et qui est représenté par la formule générale (1). (Dans la formule (1), R1 à R4 et X1 et X2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe de substitution, X1 et/ou X2 représentent un groupe attirant les électrons, Y représente un groupe libérant les électrons, et B est une base.)
(JA) 感度に優れた感光性樹脂組成物、該組成物から得られる樹脂層を有するドライフィルム、該組成物または該ドライフィルムの樹脂層の硬化物、該硬化物を有するプリント配線板、感度に優れた光塩基発生剤を提供する。下記一般式(1)で表されるカルボン酸と塩基のイオン型の光塩基発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物等である。(式(1)中、R~R、XおよびXは、それぞれ独立して、水素原子または置換基であり、XおよびXの少なくとも一方は電子吸引性基であり、Yは電子供与性基であり、Bは塩基を示す。)
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)