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1. (WO2017141299) PROCÉDÉ DE MESURE DE DISTRIBUTION D'ÉPAISSEUR DE FILM

Pub. No.:    WO/2017/141299    International Application No.:    PCT/JP2016/005254
Publication Date: Fri Aug 25 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Thu Dec 29 00:59:59 CET 2016
IPC: G01B 11/06
Applicants: SHIN-ETSU HANDOTAI CO.,LTD.
信越半導体株式会社
Inventors: KUWABARA, Susumu
桑原 登
Title: PROCÉDÉ DE MESURE DE DISTRIBUTION D'ÉPAISSEUR DE FILM
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de mesure de distribution d'épaisseur de film pour mesurer, par spectroscopie par réflectance au moyen d'une source de lumière linéaire, une distribution d'épaisseur de film d'un film mince ou de films d'une tranche revêtue d'un film mince ayant au moins une couche de film mince formée sur une surface d'un substrat, la mesure de distribution d'épaisseur de film comprenant : une étape, exécutée simultanément lors du balayage de la surface de la tranche revêtue d'un film mince avec un faisceau de lumière rayonnée par une source de lumière linéaire et de la détection de la lumière réfléchie à l'aide d'une source de lumière linéaire ayant une source de lumière plus longue que le diamètre de la tranche revêtue d'un film mince comme source de lumière linéaire, consistant à irradier une référence avec une partie du faisceau de lumière et à détecter également la lumière réfléchie par cette dernière ; une étape consistant à corriger l'intensité de la lumière réfléchie par la tranche revêtue d'un film mince en utilisant l'intensité de la lumière réfléchie par la référence ; et une étape consistant à calculer une distribution d'épaisseur de film à partir de l'intensité corrigée de la lumière réfléchie par la tranche revêtue d'un film mince. Ceci fournit un procédé de mesure de distribution d'épaisseur de film qui permet une mesure de distribution d'épaisseur de film stable et précise lorsqu'une distribution d'épaisseur de film d'une tranche revêtue d'un film mince est mesurée par spectroscopie par réflectance au moyen d'une source de lumière linéaire.