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1. (WO2017140528) PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE STRUCTURE, APPAREIL D'INSPECTION, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET FILTRE SÉLECTIF EN LONGUEUR D'ONDE UTILISABLE DANS LE DISPOSITIF

Pub. No.:    WO/2017/140528    International Application No.:    PCT/EP2017/052594
Publication Date: Fri Aug 25 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Wed Feb 08 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: PANDEY, Nitesh
DEN BOEF, Arie, Jeffrey
VAN DAM, Marinus, Johannes, Maria
Title: PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE STRUCTURE, APPAREIL D'INSPECTION, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET FILTRE SÉLECTIF EN LONGUEUR D'ONDE UTILISABLE DANS LE DISPOSITIF
Abstract:
L'invention concerne un diffusiomètre qui procède sur la base de diffractions à des mesures d'un ou plusieurs paramètres d'une structure cible. Pour effectuer des mesures à deux couleurs en parallèle, la structure est éclairée simultanément avec un premier rayonnement (302) comportant une première longueur d'onde et une première distribution angulaire et avec un deuxième rayonnement (304) comportant une deuxième longueur d'onde et une deuxième distribution angulaire. Le chemin de collecte (CP) inclut un filtre segmenté sélectif en longueur d'onde (21, 310) servant à émettre des parties désirées d'ordre supérieur du premier rayonnement diffracté (302X, 302Y) et du deuxième rayonnement diffracté (304X, 304Y), tout en bloquant simultanément les parties d'ordre zéro (302", 304") du premier rayonnement comme du deuxième rayonnement. Le chemin d'éclairage (IP) selon un mode de réalisation inclut un filtre segmenté sélectif en longueur d'onde (13, 300) correspondant, orienté de sorte qu'un rayon d'ordre zéro traversant le système optique d'éclairage et le système optique de collecte sera bloqué par l'un ou l'autre desdits filtres, selon sa longueur d'onde.