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1. (WO2017140353) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE MÉTROLOGIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2017/140353 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/053327
Date de publication : 24.08.2017 Date de dépôt international : 17.02.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 30.11.2017
CIB :
G01N 29/24 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
29
Recherche ou analyse des matériaux par l'emploi d'ondes ultrasonores, sonores ou infrasonores; Visualisation de l'intérieur d'objets par transmission d'ondes ultrasonores ou sonores à travers l'objet
22
Détails
24
Sondes
Déposants :
EV GROUP E. THALLNER GMBH [AT/AT]; 1, DI Erich Thallner Straße 4782 St. Florian am Inn, AT
Inventeurs :
EIBELHUBER, Martin; AT
HEILIG, Markus; DE
POVAZAY, Boris; AT
Mandataire :
SCHWEIGER, Johannes; DE
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METROLOGICAL DEVICE AND METROLOGICAL METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE MÉTROLOGIE
(DE) METROLOGIEVORRICHTUNG UND METROLOGIEVERFAHREN
Abrégé :
(EN) The invention relates to a metrological device for examining a substrate, in particular a substrate stack (14), having the following features: sound application means for applying sound waves to a first substrate stack surface () of the substrate, in particular the substrate stack (14), an optical system having a) a source for emitting electromagnetic radiation, which is divided into at least a first beam path and a second beam path, b) means for applying the first beam path to a substrate stack measurement surface (14m) of the substrate, in particular the substrate stack (14), c) interference means for forming interference radiation from the first and second beam paths, and d) a detector (5) for sensing the interference radiation, evaluating means for evaluating the interference radiation sensed at the detector (5). The invention further relates to a metrological method for examining a bonded substrate, in particular a substrate stack (14), having the following steps, in particular the following sequence: applying sound waves to a first substrate stack surface () of the substrate, in particular the substrate stack (14), applying a first beam path of electromagnetic radiation emitted from a source to a substrate stack measurement surface (14m) of the sound-wave-loaded substrate, in particular substrate stack (14), forming interference radiation from the first and second beam paths of the electromagnetic radiation, sensing the interference radiation at a detector (5), evaluating the interference radiation sensed at the detector.
(FR) L’invention concerne un dispositif de métrologie permettant d’examiner un substrat, en particulier une pile de substrats (14), qui présente les caractéristiques suivantes : des moyens de sollicitation sonore pour appliquer des ondes sonores à une première surface de la pile de substrats () du substrat, en particulier de la pile de substrats (14); un système optique comportant a) une source pour émettre un rayonnement électromagnétique qui est ou va être réparti en une première trajectoire et en une seconde trajectoire, b) des moyens pour solliciter une surface de mesure de pile de substrats (14m) du substrat, en particulier de la pile de substrats (14), avec la première trajectoire de faisceau, c) des moyens d’interférence pour générer un faisceau d’interférence à partir de la première et de la seconde trajectoire de faisceau et d) un détecteur (5) pour détecter le rayonnement d’interférence ainsi que des moyens d’évaluation pour évaluer le rayonnement d’interférence détecté au niveau du détecteur (5). La présente invention concerne en outre un procédé de métrologie permettant d’examiner un substrat lié par métallisation, en particulier une pile de substrats (14), qui comprend les étapes suivantes: appliquer des ondes sonores à une première surface de pile de substrats () du substrat, en particulier de la pile de substrats (14); solliciter une première surface de mesure de pile de substrats (14m) du substrat sollicité par les ondes sonores appliquées, avec une première trajectoire de faisceau provenant d’un rayonnement électromagnétique émis par une source; générer un rayonnement d’interférence à partir de la première trajectoire de faisceau et d’une seconde trajectoire de faisceau du rayonnement électromagnétique, détecter le rayonnement d’interférence au niveau d’un détecteur (5) et évaluer le rayonnement d’interférence détecté au niveau du détecteur.
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Metrologievorrichtung zur Überprüfung eines Substrats, insbesondere Substratstapels, (14) mit folgenden Merkmalen: - Schallbeaufschlagungsmitteln zur Beaufschlagung einer ersten Substratstapeloberfläche () des S ubstrats, insbesondere Substratstapels, (14) mit Schallwellen, - einem optischen System mit a) einer Quelle zur Ausgabe einer elektromagnetischen Strahlung, die in mindestens einen ersten Strahlengang und einen zweiten Strahlengang aufgeteilt sind/werden, b) Mittel n zur Beaufschlagung einer Substratstapelmessoberfläche (14m) des Substrats, insbesondere Substratstapels, (14) mit dem ersten Strahlengang, c) Interferenzmitteln zur Bildung einer Interferenzstrahlung aus dem ersten und zweiten Strahlengang und d) einem Detektor (5) zur Erfassung der Interferenzstrahlung, Auswertungsmitteln zur Auswertung der am Detektor (5) erfassten Interferenzstrahlung. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung ein Metrologieverfahren zur Überprüfung eines gebondeten Substrats, insbesondere Substratstapels, (14) mit folgenden Schritten, insbesondere folgendem Ablauf: - Beaufschlagung einer ersten Substratstapeloberfläche () des Substrats, insbesondere Substratstapels, (14) mit Schallwellen, - Beaufschlagung einer Substratstapelmessoberfläche (14m) des mit Schallwellen beaufschlagten Substrats, insbesondere Substratstapels, (1 4) mit einem ersten Strahlengang einer aus einer Quelle ausgegebenen elektromagnetischen Strahlung, Bildung einer interferenzstrahiung aus dem ersten Strahlengang und einem zweiten Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung, Erfassung der Interferenzstrahiung an einem Detektor (5), Auswertung der am Detektor erfassten Interferenzstrahiung.
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Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)