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1. (WO2017140015) SUBSTRAT MATRICIEL DE TFT À DOUBLE ÉLECTRODE DE GRILLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI

Pub. No.:    WO/2017/140015    International Application No.:    PCT/CN2016/078016
Publication Date: Fri Aug 25 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Apr 01 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 29/786
G02F 1/1343
Applicants: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
深圳市华星光电技术有限公司
Inventors: GE, Shimin
葛世民
Title: SUBSTRAT MATRICIEL DE TFT À DOUBLE ÉLECTRODE DE GRILLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
Abstract:
L'invention concerne un substrat matriciel de TFT à double électrode de grille (101) et un procédé de fabrication de celui-ci. En agençant une électrode de source (7) et une électrode de drain (8) sur une couche d'électrode commune (6), pendant la fabrication de l'électrode commune, l'électrode de source (7) et l'électrode de drain (8) peuvent être formées simultanément sur la couche d'électrode commune (7) grâce à un masque photographique ; le présent substrat matriciel de TFT à double électrode de grille (101) et le procédé de fabrication de celui-ci ont les avantages de réduire le nombre d'utilisations d'un masque photographique, de raccourcir le processus de fabrication et d'améliorer le rendement de production.