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1. (WO2017139483) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉPÔT ET DE GRAVURE DE MULTIPLES COUCHES DANS UN SYSTÈME DE TRAITEMENT PAR LOTS

Pub. No.:    WO/2017/139483    International Application No.:    PCT/US2017/017216
Publication Date: Fri Aug 18 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Feb 10 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/02
H01L 21/205
H01L 21/311
H01L 21/027
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.
Inventors: O'MEARA, David L.
DIP, Anthony
Title: PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉPÔT ET DE GRAVURE DE MULTIPLES COUCHES DANS UN SYSTÈME DE TRAITEMENT PAR LOTS
Abstract:
Selon divers modes de réalisation, l'invention concerne un procédé et un appareil de dépôt et de gravure de multiples couches dans un système de traitement par lots. Selon un mode de réalisation, le procédé consiste à disposer des substrats sur une pluralité de supports de substrat dans une chambre de traitement, la chambre de traitement contenant des espaces de traitement délimités autour d'un axe de rotation dans la chambre de traitement, à faire tourner la pluralité de supports de substrat autour de l'axe de rotation, à déposer une première couche sur une couche à motifs sur chacun des substrats par dépôt de couche atomique, et à graver une partie de la première couche sur chacun des substrats, la gravure d'une partie de la première couche consistant à éliminer au moins une partie horizontale de la première couche tout en laissant sensiblement des parties verticales de la première couche. Le procédé consiste en outre à répéter les étapes de dépôt et de gravure pour une deuxième couche contenant un matériau différent de la première couche.