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1. (WO2017138695) RÉACTEUR
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N° de publication : WO/2017/138695 N° de la demande internationale : PCT/KR2016/015034
Date de publication : 17.08.2017 Date de dépôt international : 21.12.2016
CIB :
B01J 19/00 (2006.01) ,B01J 19/10 (2006.01) ,B01J 19/08 (2006.01) ,B01J 19/26 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19
Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19
Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
08
Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage
10
utilisant des vibrations de fréquences audibles ou des ultrasons
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19
Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
08
Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19
Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
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Réacteurs du type à injecteur, c. à d. dans lesquels la distribution des réactifs de départ dans le réacteur est effectuée par introduction ou injection au moyen d'injecteurs
Déposants :
영남대학교 산학협력단 RESEARCH COOPERATION FOUNDATION OF YEUNGNAM UNIVERSITY [KR/KR]; 경상북도 경산시 대학로 280 280, Daehak-ro, Gyeongsan-si, Gyeongsangbuk-do 38541, KR
Inventeurs :
박진호 PARK, Chin Ho; KR
김홍탁 KIM, Hong Tak; KR
Mandataire :
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-001637712.02.2016KR
Titre (EN) REACTOR
(FR) RÉACTEUR
(KO) 반응기
Abrégé :
(EN) The present application relates to a reactor. The reactor according to the present application suppresses the explosive reaction rate of a metal nanoparticle precursor by spraying a solution comprising a metal precursor to a solution comprising a reactive compound very highly reactive to the metal precursor and thus can control the precursor nanoparticles to have a small particle size even at low costs and accordingly produce a film having uniform surface roughness and a large area.
(FR) La présente invention concerne un réacteur. Le réacteur selon la présente invention supprime la vitesse de réaction explosive d'un précurseur de nanoparticules métalliques par pulvérisation d'une solution comprenant un précurseur de métal sur une solution comprenant un composé réactif très fortement réactif au précurseur métallique, et peut ainsi réguler les nanoparticules de précurseur pour qu'elles aient une petite taille de particule même à faible coût, et par conséquent obtenir un film ayant une rugosité en surface uniforme et une zone importante.
(KO) 본 출원은 반응기에 관한 것이며, 본 출원의 반응기에 의하면, 금속 전구체와 반응성이 매우 큰 반응성 화합물을 포함하는 용액에 상기 금속 전구체를 포함하는 용액을 분사하여 금속 나노 입자 전구체의 폭발적인 반응 속도를 억제함으로써, 적은 비용으로도 상기 전구체 나노 입자의 입자 크기를 작게 제어할 수 있고, 이에 따라, 균일한 표면 거칠기를 가지는 필름을 대면적으로 제조할 수 있다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)