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1. (WO2017138694) FILM, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM, ET DIODE ÉLECTROLUMINESCENTE COMPRENANT LEDIT FILM
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N° de publication : WO/2017/138694 N° de la demande internationale : PCT/KR2016/015032
Date de publication : 17.08.2017 Date de dépôt international : 21.12.2016
CIB :
B32B 37/24 (2006.01) ,H01L 33/02 (2010.01) ,H01L 33/44 (2010.01) ,B32B 38/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
37
Procédés ou dispositifs pour la stratification, p.ex. par polymérisation ou par liaison à l'aide d'ultrasons
14
caractérisés par les propriétés des couches
24
avec au moins une couche qui ne présente pas de cohésion avant la stratification, p.ex. constituée de matériau granulaire projeté sur un substrat
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
33
Dispositifs à semi-conducteurs ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Détails
02
caractérisés par les corps semi-conducteurs
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
33
Dispositifs à semi-conducteurs ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Détails
44
caractérisés par les revêtements, p.ex. couche de passivation ou revêtement antireflet
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
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Opérations auxiliaires liées aux procédés de stratification
Déposants :
영남대학교 산학협력단 RESEARCH COOPERATION FOUNDATION OF YEUNGNAM UNIVERSITY [KR/KR]; 경상북도 경산시 대학로 280 280, Daehak-ro, Gyeongsan-si, Gyeongsangbuk-do 38541, KR
Inventeurs :
박진호 PARK, Chin Ho; KR
김홍탁 KIM, Hong Tak; KR
Mandataire :
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-001637412.02.2016KR
Titre (EN) FILM, METHOD FOR PRODUCING FILM, AND LIGHT-EMITTING DIODE COMPRISING SAID FILM
(FR) FILM, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM, ET DIODE ÉLECTROLUMINESCENTE COMPRENANT LEDIT FILM
(KO) 필름, 필름의 제조방법 및 상기 필름을 포함하는 발광 다이오드
Abrégé :
(EN) The present application relates to a method for producing a metallic nitride layer film, a film produced by said method, and a light-emitting diode comprising said film. The method according to the present application suppresses the explosive reaction rate of a metal nanoparticle precursor by spraying a solution comprising a metal precursor to a solution comprising a compound containing sulfur, thus can control precursor nanoparticles to have a small particle size even at low costs and accordingly produce a film having uniform surface roughness and a large area, and further can provide a film which allows a sulfur ingredient to be detected in the form of a photoluminescence spectrum at the surface of a metallic nitride layer formed from the metal nanoparticle precursor, since the metal precursor nanoparticles, which are formed by reacting the compound containing sulfur with the metal precursor, contain sulfur.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production d'un film à couche de nitrure métallique, un film produit par ledit procédé, et une diode électroluminescente comprenant ledit film. Le procédé selon la présente invention supprime la vitesse de réaction explosive d'un précurseur de nanoparticules métalliques par pulvérisation d'une solution comprenant un précurseur de métal sur une solution comprenant un composé contenant du soufre, peut donc réguler les nanoparticules de précurseur pour qu'elles aient une petite taille de particules même à faible coût, et par conséquent obtenir un film présentant une rugosité de surface uniforme et une surface importante, et peut en outre fournir un film qui permet de détecter un ingrédient de soufre sous la forme d'un spectre de photoluminescence à la surface d'une couche de nitrure métallique formée à partir du précurseur de nanoparticules métalliques, puisque les nanoparticules de précurseur de métal, qui sont formées par la réaction du composé contenant du soufre avec le précurseur de métal, contiennent du soufre.
(KO) 본 출원은 금속 질화물층 필름의 제조방법, 상기 방법에 의해 제조된 필름 및 상기 필름을 포함하는 발광 다이오드에 관한 것이다. 본 출원의 방법에 의하면, 황을 함유하는 화합물을 포함하는 용액에 금속 전구체를 포함하는 용액을 스프레이하여 금속 나노 입자 전구체의 폭발적인 반응 속도를 억제함으로써, 적은 비용으로도 상기 전구체 나노 입자의 입자 크기를 작게 제어할 수 있고, 이에 따라, 균일한 표면 거칠기를 가지는 필름을 대면적으로 제조할 수 있으며, 또한, 황을 함유하는 화합물과 금속 전구체의 반응에 의해 형성된 상기 금속 전구체 나노 입자가 황을 함유하므로, 상기 금속 나노 입자 전구체로부터 형성된 금속 질화물층 표면에서 황 성분이 광루미네선스 스펙트럼 상으로 검출되는 필름을 제공할 수 있다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)