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1. (WO2017138494) PLAQUE D'ANALYSE, PROCÉDÉ D'ANALYSE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE D'ANALYSE
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N° de publication :    WO/2017/138494    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/004249
Date de publication : 17.08.2017 Date de dépôt international : 06.02.2017
CIB :
G01N 33/543 (2006.01), G01N 21/01 (2006.01), G01N 21/27 (2006.01), G01N 33/483 (2006.01)
Déposants : ZEON CORPORATION [JP/JP]; 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246 (JP).
OSAKA PREFECTURE UNIVERSITY PUBLIC CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Gakuen-cho, Naka-ku, Sakai-shi, Osaka 5998531 (JP)
Inventeurs : ENDO, Tatsuro; (JP).
YAKABE, Hiroshi; (JP)
Mandataire : SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-022179 08.02.2016 JP
Titre (EN) ANALYSIS PLATE, ANALYSIS METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ANALYSIS PLATE
(FR) PLAQUE D'ANALYSE, PROCÉDÉ D'ANALYSE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE D'ANALYSE
(JA) 分析プレート、分析方法、及び分析プレートの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This analysis plate includes a substrate and a molecule which is immobilized on the surface of the substrate and which specifically recognizes a substance to be measured, wherein the substrate includes a selectively reflective layer in at least part of a layer thereof. The surface of the substrate preferably has an uneven structure capable of exhibiting a structural color. Further, the bandwidth of light reflection based on the selective reflectivity of the selectively reflective layer is preferably within the bandwidth of light reflection based on the uneven structure. Also provided are an analysis method employing the same, and a method of manufacturing the same.
(FR)L'invention concerne une plaque d'analyse qui comprend un substrat et une molécule qui est immobilisée sur la surface du substrat et qui reconnaît spécifiquement une substance à mesurer, le substrat comprenant une couche sélectivement réfléchissante dans au moins une partie d'une couche de ce dernier. La surface du substrat comporte de préférence une structure irrégulière susceptible de présenter une couleur structurelle. De plus, la largeur de bande de réflexion de lumière basée sur la réflectivité sélective de la couche sélectivement réfléchissante est de préférence dans la largeur de bande de réflexion de lumière basée sur la structure irrégulière. L'invention concerne également un procédé d'analyse l'utilisant et son procédé de fabrication.
(JA)基材、及び前記基材の表面上に固定化された、測定対象物質を特異的に認識する分子を含む分析プレートであって、前記基材は、その層内の少なくとも一部において、選択反射層を含む、分析プレート。好ましくは前記基材の前記表面は、構造色を呈しうる凹凸構造を有する。また、好ましくは前記選択反射層の選択反射性に基づく光反射の帯域が、前記凹凸構造に基づく光反射の帯域内にある。ならびにそれを用いた分析方法及びその製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)