WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Options
Langue d'interrogation
Stemming/Racinisation
Trier par:
Nombre de réponses par page
1. (WO2017138411) PROCÉDÉ DE MESURE DE FORME, DISPOSITIF DE MESURE DE FORME, PROCÉDÉ DE DÉTECTION ET DISPOSITIF DE DÉTECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/138411 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/003513
Date de publication : 17.08.2017 Date de dépôt international : 01.02.2017
CIB :
G01B 11/24 (2006.01) ,G01B 11/22 (2006.01) ,G01N 21/64 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11
Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
24
pour mesurer des contours ou des courbes
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11
Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
22
pour mesurer la profondeur
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
62
Systèmes dans lesquels le matériau analysé est excité de façon à ce qu'il émette de la lumière ou qu'il produise un changement de la longueur d'onde de la lumière incidente
63
excité optiquement
64
Fluorescence; Phosphorescence
Déposants : KONICA MINOLTA, INC.[JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
Inventeurs : NAKAMURA, Yukito; --
KAYA, Takatoshi; --
NAGAE, Kosuke; --
Mandataire : WASHIDA, Kimihito; JP
Données relatives à la priorité :
2016-02213108.02.2016JP
Titre (EN) SHAPE MEASUREMENT METHOD, SHAPE MEASUREMENT DEVICE, DETECTION METHOD, AND DETECTION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE FORME, DISPOSITIF DE MESURE DE FORME, PROCÉDÉ DE DÉTECTION ET DISPOSITIF DE DÉTECTION
(JA) 形状測定方法、形状測定装置、検出方法および検出装置
Abrégé :
(EN) In this shape measurement method, when light is irradiated on a diffraction grating that is disposed such that a plurality of grooves having a fixed width are parallel to each other with a fixed pitch, m-order diffracted light included in diffracted light generated by the diffraction grating is detected. The pitch of the grooves is determined on the basis of the diffraction angle of the m-order diffracted light. The depth of the grooves is determined on the basis of the light quantity of the m-order diffracted light.
(FR) La présente invention concerne un procédé de mesure de forme dans lequel, lorsqu’une lumière est irradiée sur un réseau de diffraction qui est disposé de sorte qu’une pluralité de rainures ayant une largeur fixe soient parallèles les unes aux autres avec un pas fixe, la lumière diffractée d’ordre m incluse dans la lumière diffractée générée par le réseau de diffraction soit détectée. Le pas des rainures est déterminé sur la base de l’angle de diffraction de la lumière diffractée d’ordre m. La profondeur des rainures est déterminée sur la base de la quantité de lumière de la lumière diffractée d’ordre m.
(JA) 形状測定方法では、一定の幅の複数の溝が一定のピッチで互いに平行となるように配置されている回折格子に光を照射したときに、回折格子で生じる回折光に含まれるm次回折光を検出する。m次回折光の回折角に基づいて、溝のピッチを決定する。m次回折光の光量に基づいて、溝の深さを決定する。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)