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1. (WO2017138274) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2017/138274    International Application No.:    PCT/JP2016/088671
Publication Date: Fri Aug 18 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Tue Dec 27 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/304
H01L 21/02
H01L 21/306
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: IWAO, Michinori
岩尾 通矩
MURAMOTO, Ryo
村元 僚
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract:
Unité de support de substrat d'un dispositif de traitement de substrat maintenant un substrat (9) dans un état horizontal. Un mécanisme de rotation de substrat fait tourner l'unité de support de substrat autour d'un axe central J1 orienté dans une direction supérieure-inférieure. Une plaque supérieure (5) est opposée à une surface supérieure du substrat (9), et tourne autour de l'axe central (J1). Une unité d'alimentation en gaz apporte du gaz d'atmosphère de traitement à une partie radialement centrale d'un espace inférieur qui est un espace sous la plaque supérieure (5). Une unité de production d'ions (8) produit et apporte des ions au gaz d'atmosphère de traitement depuis l'unité d'alimentation en gaz. Avec la plaque supérieure (5) positionnée plus bas qu'au moment de l'arrivée du substrat (9), le gaz d'atmosphère de traitement comprenant des ions est apporté à l'espace inférieur lorsque l'unité de support de substrat et la plaque supérieure (5) tournent. Par conséquent, un écoulement d'air d'ions est formé, s'étendant depuis la partie radialement centrale de l'espace inférieur vers l'extérieur radialement. De cette manière, la plaque supérieure (5) peut être neutralisée dans une structure simple.