WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2017051922) COPOLYMÈRE (MÉTH)ACRYLIQUE, SOLUTION DE POLYMÈRE, COMPOSITION CONTENANT UN POLYMÈRE, COMPOSITION DE REVÊTEMENT ANTISALISSURE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COPOLYMÈRE (MÉTH)ACRYLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/051922    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/078242
Date de publication : 30.03.2017 Date de dépôt international : 26.09.2016
CIB :
C08F 265/00 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), C08F 230/08 (2006.01), C08L 33/04 (2006.01), C08L 43/00 (2006.01), C08L 51/00 (2006.01), C09D 5/16 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 133/14 (2006.01), C09D 151/06 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008251 (JP)
Inventeurs : TANIGUCHI Kana; (JP).
KATSUMATA Sho; (JP).
NAKAMURA Junichi; (JP).
URA Masatoshi; (JP).
KAMON Yoshihiro; (JP).
ASAI Takafumi; (JP)
Mandataire : SHIGA Masatake; (JP).
TAKAHASHI Norio; (JP).
SUZUKI Mitsuyoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-188349 25.09.2015 JP
2015-190946 29.09.2015 JP
Titre (EN) (METH)ACRYLIC COPOLYMER, POLYMER SOLUTION, POLYMER-CONTAINING COMPOSITION, ANTIFOULING COATING COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING (METH)ACRYLIC COPOLYMER
(FR) COPOLYMÈRE (MÉTH)ACRYLIQUE, SOLUTION DE POLYMÈRE, COMPOSITION CONTENANT UN POLYMÈRE, COMPOSITION DE REVÊTEMENT ANTISALISSURE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COPOLYMÈRE (MÉTH)ACRYLIQUE
(JA) (メタ)アクリル系共重合体、重合体溶液、重合体含有組成物、防汚塗料組成物及び(メタ)アクリル系共重合体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The (meth)acrylic copolymer of the first embodiment of the invention has at least one structural unit selected from the group comprising structural units having at least one structure (I) selected from the group comprising structures represented by formula (1), formula (2), and formula (3) and structural units having a triorganosilyloxycarbonyl group, and a structural unit derived from a macromonomer (b). (In the formulas, X represents -O-, -S-, or -NR14-, R14 represents a hydrogen atom or alkyl group, R1 and R2 each represent a hydrogen atom or C1-10 alkyl group, R3 and R5 each represent a C1-20 alkyl group, cycloalkyl group, or aryl group; and R4 and R6 each represent a C1-10 alkylene group.)
(FR)Le copolymère (méth)acrylique du premier mode de réalisation de l'invention comprend au moins un motif structural choisi dans le groupe constitué par des motifs structuraux ayant au moins une structure (I) choisie dans le groupe constitué par des structures représentées par la formule (1), la formule (2), et la formule (3) et des motifs structuraux comprenant un groupe triorganosilyloxycarbonyle, et un motif structural dérivé d'un macromonomère (b). (Dans les formules, X représente -O-, -S-, ou -NR14-, R14 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle, R1 et R2 représentent chacun un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1 à C10, R3 et R5 représentent chacun un groupe alkyle, un groupe cycloalkyle, ou un groupe aryle en C1 à C20; et R4 et R6 représentent chacun un groupe alkylène en C1 à C10).
(JA)本発明の第一の態様の(メタ)アクリル系共重合体は、下記式(1)、下記式(2)又は下記式(3)で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも1種の構造(I)を有する構成単位、及びトリオルガノシリルオキシカルボニル基を有する構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位と、マクロモノマー(b)由来の構成単位と、を有する。(式中、Xは-O-、-S-又は-NR14-を示し、R14は水素原子又はアルキル基を示し、R及びRはそれぞれ、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を示し、R及びRはそれぞれ、炭素数1~20のアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示し、R及びRはそれぞれ、炭素数1~10のアルキレン基を示す。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)