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1. (WO2017051913) SUBSTRAT DE CULTURE CELLULAIRE, PROCÉDÉ DE CULTURE CELLULAIRE UTILISANT CELUI-CI, CONTENANT DE CULTURE CELLULAIRE ET SON UTILISATION EN TANT QUE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/051913    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/078126
Date de publication : 30.03.2017 Date de dépôt international : 23.09.2016
CIB :
C12M 3/00 (2006.01), C08G 63/672 (2006.01), C08L 67/02 (2006.01), C12N 5/07 (2010.01)
Déposants : MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
Inventeurs : ANDO, Haruna; (JP).
IIDA, Shin; (JP).
YAMAGUCHI, Yasunori; (JP)
Mandataire : INABA, Yoshiyuki; (JP).
ONUKI, Toshifumi; (JP).
NAITO, Kazuhiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-187846 25.09.2015 JP
Titre (EN) SUBSTRATE FOR CELL CULTURE, CELL CULTURE METHOD USING SAME, CELL CULTURE VESSEL, AND USE AS SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT DE CULTURE CELLULAIRE, PROCÉDÉ DE CULTURE CELLULAIRE UTILISANT CELUI-CI, CONTENANT DE CULTURE CELLULAIRE ET SON UTILISATION EN TANT QUE SUBSTRAT
(JA) 細胞培養用基材およびそれを用いた細胞培養方法、細胞培養器、並びに基材としての使用
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a substrate for cell culture, said substrate including a polyester resin that includes a dicarboxylic acid unit and a diol unit, wherein 1-80 mol% of the diol unit is a diol unit that has a cyclic acetal skeleton.
(FR)La présente invention concerne un substrat pour de culture cellulaire, ledit substrat comprenant une résine polyester qui comprend une unité acide dicarboxylique et une unité diol, 1 % à 80 % en moles de l'unité diol étant une unité diol qui a un squelette d’acétal cyclique.
(JA)本発明は、ジカルボン酸単位とジオール単位とを含む、ポリエステル樹脂を含み、そのジオール単位中1~80モル%が環状アセタール骨格を有するジオール単位である細胞培養用基材、を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)