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1. (WO2017051790) SOURCE DE DÉPÔT, DISPOSITIF DE DÉPÔT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM PAR DÉPÔT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/051790    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/077623
Date de publication : 30.03.2017 Date de dépôt international : 20.09.2016
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
Inventeurs : INOUE, Satoshi; (--).
KAWATO, Shinichi; (--).
NIBOSHI, Manabu; (--).
KOBAYASHI, Yuhki; (--)
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-187431 24.09.2015 JP
Titre (EN) DEPOSITION SOURCE, DEPOSITION DEVICE, AND DEPOSITION FILM MANUFACTURING METHOD
(FR) SOURCE DE DÉPÔT, DISPOSITIF DE DÉPÔT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM PAR DÉPÔT
(JA) 蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a deposition source having a higher material use efficiency compared with conventional cases. A deposition source (10) is provided with a deposition particle injection unit (30) that has: nozzle units each having at least one deposition nozzle (32, 52), said nozzle units being laminated by being separated from each other in the perpendicular direction, and being disposed at a plurality of levels; and at least one space (43) that is provided between the deposition nozzles at respective levels. The deposition source is also provided with a vacuum exhausting unit (14) connected to at least the one space (43).
(FR)L'invention concerne une source de dépôt ayant une efficacité d'utilisation de matériau supérieure par rapport aux cas classiques. Une source de dépôt (10) est pourvue d'une unité d'injection de particules de dépôt (30) elle-même pourvue : d'unités de buses ayant chacune au moins une buse de dépôt (32, 52), lesdites unités de buses étant stratifiées en étant séparées l'une de l'autre dans la direction perpendiculaire, et étant disposées sur une pluralité de niveaux ; et au moins un espace (43) qui est prévu entre les buses de dépôt à des niveaux respectifs. La source de dépôt est également pourvue d'une unité de mise sous vide (14) reliée à l'au moins un espace (43).
(JA)従来よりも材料利用効率が高い蒸着源を提供する。蒸着源(10)は、それぞれ少なくとも1つの蒸着ノズル(32・52)を有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段のノズルユニットと、各段の蒸着ノズル間に設けられた少なくとも1つの空間部(43)とを有する蒸着粒子射出ユニット(30)と、少なくとも1つの空間部(43)に接続された真空排気ユニット(14)とを備えている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)