WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2017051443) PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE STRUCTURE MICROPÉRIODIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENTS DE POLARISATION DE GRILLE ET ÉQUIPEMENT D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/051443    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/004864
Date de publication : 30.03.2017 Date de dépôt international : 24.09.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-6-5, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1008150 (JP)
Inventeurs : YAJIMA, Daisuke; (JP).
NOMOTO, Kentaro; (JP).
NAWAKI, Yohei; (JP)
Mandataire : KONISHI, Kay; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) EXPOSURE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MICROPERIODICAL STRUCTURE, METHOD FOR MANUFACTURING GRID POLARIZER ELEMENTS, AND EXPOSURE EQUIPMENT
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE STRUCTURE MICROPÉRIODIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENTS DE POLARISATION DE GRILLE ET ÉQUIPEMENT D'EXPOSITION
(JA) 露光方法、微細周期構造体の製造方法、グリッド偏光素子の製造方法及び露光装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are an exposure method, a method for manufacturing microperiodical structures, a method for manufacturing grid polarizer elements, and exposure equipment such that a workpiece can be subjected to high-throughput and low-cost micromachining. Exposure equipment (1) generates interference light by branching the output light from a coherent light source into two or more light beams and causing the two or more light beams to intersect with each other at a prescribed interference angle, and exposes a substrate by repeatedly irradiating the substrate with the interference light beams and conveying the substrate. Concurrently, the exposure equipment (1) forms an interference-light irradiated area on the substrate into a prescribed shape. When the exposure equipment (1) exposes the substrate while conveying the substrate step by step, the exposure equipment (1) aligns the interference-light irradiated areas, for each exposure, next to each other on the substrate without overlap along the substrate conveyance direction.
(FR)L'invention concerne un procédé d'exposition, un procédé de fabrication de structures micropériodiques, un procédé de fabrication d'éléments de polarisation de grille et un équipement d'exposition permettant d'obtenir une pièce à usiner à un rendement élevé et à un faible coût de micro-usinage. Un équipement d'exposition (1) génère une lumière d'interférence en ramifiant la lumière de sortie d'une source de lumière cohérente en deux faisceaux de lumière, ou plus, et en amenant les deux faisceaux de lumière, ou plus, à se couper entre eux à un angle d'interférence prescrit, et expose un substrat en soumettant de manière répétée le substrat aux faisceaux de lumière d'interférence et en transportant le substrat. Simultanément, l'équipement d'exposition (1) forme une zone soumise à un rayonnement de lumière d'interférence sur le substrat selon une forme prescrite. Lorsque l'équipement d'exposition (1) expose le substrat tout en transportant le substrat pas à pas, l'équipement d'exposition (1) aligne les zones soumises à un rayonnement de lumière d'interférence, pour chaque exposition, les unes à côté des autres sur le substrat sans chevauchement le long de la direction de transport de substrat.
(JA)スループットが高く、且つ低コストでワークへの微細加工を実現することができる露光方法、微細周期構造体の製造方法、グリッド偏光素子の製造方法及び露光装置が開示される。露光装置(1)は、コヒーレント光源の出力光を2以上に分岐した光を所定の干渉角度で交差して干渉光を発生し、当該干渉光の基板への照射と基板の搬送とを繰り返して基板を露光する。このとき、露光装置(1)は、干渉光が照射される基板上の干渉光照射領域を所定形状に整形する。そして、露光装置(1)は、基板をステップ的に搬送しながら露光するに際し、各ショットでの干渉光照射領域同士を、基板上で基板搬送方向に重畳させずに隣接させる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)