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1. (WO2017050506) APPAREIL ET PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/050506    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/069879
Date de publication : 30.03.2017 Date de dépôt international : 23.08.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL).
CYMER INC. [US/US]; 17075 Thornmint Court San Diego, California 92127 (US)
Inventeurs : EVERTS, Frank; (NL).
OP 'T ROOT, Wilhelmus, Patrick, Elisabeth, Maria; (NL).
GODFRIED, Herman, Philip; (NL).
THORNES, Joshua, Jon; (US).
O'BRIEN, Kevin, Michael; (US).
SAANEN, Leon, Pieter, Paul; (NL).
AGGARWAL, Tanuj; (US)
Mandataire : KETTING, Alfred; (NL)
Données relatives à la priorité :
62/222,610 23.09.2015 US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A method of controlling output of a radiation source, the method including: periodically monitoring an output energy of the radiation source; determining a difference between a reference energy signal and the monitored output energy; determining a feedback value; determining a desired output energy of the radiation source for a subsequent time period; and controlling an input parameter of the radiation source in dependence on the determined desired output energy during the subsequent time period. If the magnitude of the determined difference between the monitored output energy of the radiation source and the reference energy signal exceeds a threshold value: the determined difference does not contribute to the feedback value; and the determined difference is spread over the subsequent time period according to a reference energy signal adjustment profile and the reference energy signal adjustment profile is added to the reference energy signal for the subsequent time period.
(FR)La présente invention concerne un procédé de commande de la sortie d'une source de rayonnement, le procédé consistant : à surveiller périodiquement une énergie de sortie de la source de rayonnement ; à déterminer une différence entre un signal d'énergie de référence et l'énergie de sortie surveillée ; à déterminer une valeur de rétroaction ; à déterminer une énergie de sortie souhaitée de la source de rayonnement pendant un laps de temps ultérieur ; et à commander un paramètre d'entrée de la source de rayonnement en fonction de l'énergie de sortie souhaitée déterminée pendant le laps de temps ultérieur. Si l'ampleur de la différence déterminée entre l'énergie de sortie surveillée de la source de rayonnement et le signal d'énergie de référence dépasse une valeur seuil : la différence déterminée ne contribue pas à la valeur de rétroaction ; et la différence déterminée est étalée sur le laps de temps ultérieur conformément à un profil d'ajustement de signal d'énergie de référence, et le profil d'ajustement de signal d'énergie de référence est ajouté au signal d'énergie de référence pendant le laps de temps ultérieur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)