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1. (WO2017050303) PROCÉDÉ D'ANALYSE DE MATÉRIAUX PAR UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS FOCALISÉ, À L'AIDE DE RAYONS X CARACTÉRISTIQUES ET D'ÉLECTRONS RÉTRODIFFUSÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/050303    N° de la demande internationale :    PCT/CZ2016/000107
Date de publication : 30.03.2017 Date de dépôt international : 22.09.2016
CIB :
G01N 23/225 (2006.01), G01N 23/22 (2006.01), G01N 23/203 (2006.01)
Déposants : TESCAN BRNO, S.R.O. [CZ/CZ]; Libušina třida 816/1 623 00 Brno (CZ)
Inventeurs : MOTL, David; (CZ)
Mandataire : JORDÁN, Michal; Koliště 13a 602 00 Brno (CZ)
Données relatives à la priorité :
PV 2015-651 22.09.2015 CZ
Titre (EN) A METHOD OF ANALYSIS OF MATERIALS BY MEANS OF A FOCUSED ELECTRON BEAM USING CHARACTERISTIC X-RAYS AND BACK-SCATTERED ELECTRONS
(FR) PROCÉDÉ D'ANALYSE DE MATÉRIAUX PAR UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS FOCALISÉ, À L'AIDE DE RAYONS X CARACTÉRISTIQUES ET D'ÉLECTRONS RÉTRODIFFUSÉS
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a method of analysis of materials by means of a focused electron beam and a device thereof, where the electron beam is gradually deflected into a number of points on a sample arranged in a regular grid, creating an electron map. A set of temporary particles and a set of new measuring points are determined by means of the electron map, wherein the set of new measuring points comprises less elements than the set of the initial measuring points, and the set of new measuring points comprises at least one measuring point for each particle from the set of temporary particles. The electron beam is deflected along the set of new measuring points, the emitted X-rays are measured and an X-ray spectrum is created, a set of particles is determined, and accumulated spectrums of X-ray radiation for a particle based on the spectrums measured in the points, which are not part of the particle, are created.
(FR)L'invention concerne un procédé d'analyse de matériaux par un faisceau d'électrons focalisé et un dispositif associé, le faisceau d'électrons étant progressivement dévié dans un certain nombre de points sur un échantillon agencé sur une grille régulière, ce qui crée une carte d'électrons. Un ensemble de particules temporaires et un ensemble de nouveaux points de mesure sont déterminés au moyen de la carte d'électrons, l'ensemble de nouveaux points de mesure comprenant moins d'éléments que l'ensemble de points de mesure initial, et l'ensemble de nouveaux points de mesure comprenant au moins un point de mesure pour chaque particule de l'ensemble de particules temporaires. Le faisceau d'électrons est dévié le long de l'ensemble de nouveaux points de mesure, les rayons X émis sont mesurés et un spectre de rayons X est créé, un ensemble de particules est déterminé, et des spectres accumulés de rayonnement de rayons X pour une particule basés sur les spectres mesurés dans les points, qui ne font pas partie de la particule, sont créés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : tchèque (CS)