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1. (WO2017047215) COMPOSITION ABSORBANT DANS LE PROCHE INFRAROUGE, FILM, FILTRE DE BLOCAGE DANS LE PROCHE INFRAROUGE, ET ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/047215    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/070759
Date de publication : 23.03.2017 Date de dépôt international : 14.07.2016
CIB :
G02B 5/22 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01), H01L 27/14 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : OKAWARA Takahiro; (JP).
KAWASHIMA Takashi; (JP).
SHIMADA Kazuto; (JP).
ARIMURA Keisuke; (JP).
SASAKI Kouitsu; (JP)
Mandataire : NAKASHIMA Junko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-180580 14.09.2015 JP
2015-242111 11.12.2015 JP
Titre (EN) NEAR-INFRARED ABSORBING COMPOSITION, FILM, NEAR-INFRARED BLOCKING FILTER AND SOLID-STATE IMAGING ELEMENT
(FR) COMPOSITION ABSORBANT DANS LE PROCHE INFRAROUGE, FILM, FILTRE DE BLOCAGE DANS LE PROCHE INFRAROUGE, ET ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS
(JA) 近赤外線吸収組成物、膜、近赤外線カットフィルタおよび固体撮像素子
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a near-infrared absorbing composition which has excellent infrared shielding properties and visible light transparency, and which enables the production of a film having excellent heat resistance; a film; a near-infrared blocking filter; and a solid-state imaging element. This near-infrared absorbing composition contains a copper compound, a radical trapping agent, and a resin that generates radicals at 180°C or higher.
(FR)L'invention concerne : une composition absorbant dans le proche infrarouge qui a d'excellentes propriétés de blocage des infrarouges et de transparence à la lumière visible, et qui permet la production d'un film ayant une excellente résistance thermique ; un film ; un filtre de blocage dans le proche infrarouge ; et un élément d'imagerie à semi-conducteurs. Cette composition absorbant dans le proche infrarouge contient un composé de cuivre, un agent de piégeage de radicaux, et une résine qui génère des radicaux à 180°C ou plus.
(JA)優れた赤外線遮蔽性および可視透明性を有し、かつ、耐熱性に優れた膜を製造可能な近赤外線吸収組成物、膜、近赤外線カットフィルタおよび固体撮像素子を提供する。近赤外線吸収組成物は、銅化合物と、ラジカルトラップ剤と、180℃以上でラジカルを発生する樹脂と、を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)