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1. (WO2017047191) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE POLYISOPRÈNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/047191    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/068564
Date de publication : 23.03.2017 Date de dépôt international : 22.06.2016
CIB :
C08C 2/02 (2006.01)
Déposants : HITACHI ZOSEN CORPORATION [JP/JP]; 7-89, Nanko-kita 1-chome, Suminoe-ku, Osaka-shi, Osaka 5598559 (JP).
OSAKA UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 5650871 (JP)
Inventeurs : YUKI, Isao; (JP).
SUZUKI, Nobuaki; (JP).
TAKENO, Shinya; (JP).
NAKAZAWA, Yoshihisa; (JP).
BAMBA, Takeshi; (JP)
Mandataire : SHINDO, Takuya; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-184015 17.09.2015 JP
Titre (EN) POLYISOPRENE PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE POLYISOPRÈNE
(JA) ポリイソプレンの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This method for producing polyisoprene involves (A) a step in which an organic solvent and plant tissue containing polyisoprene are combined at a temperature of 60°C to 80°C to prepare a polyisoprene solution; and a (B) step in which the temperature of the polyisoprene solution is lowered from 0°C to 30°C and the polyisoprene is precipitated in the polyisoprene solution. The organic solvent is ethylene glycol dimethyl ether.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un polyisoprène comprenant (A) une étape dans laquelle un solvant organique et un tissu végétal contenant le polyisoprène sont combinés à une température de 60 °C à 80 °C pour préparer une solution de polyisoprène ; et (B) une étape dans laquelle la température de la solution polyisoprène est abaissée de 0 °C à 30 °C et le polyisoprène est précipité dans la solution de polyisoprène. Le solvant organique est l'éther diméthylique d'éthylène glycol.
(JA)本発明は、ポリイソプレンを製造するための方法であって、(A)ポリイソプレンを含む植物組織と有機溶媒とを、60℃から80℃の温度で合わせて、ポリイソプレン溶液を調製する工程;および(B)該ポリイソプレン溶液の温度を0℃から30℃にまで低下させて、該ポリイソプレン溶液中に該ポリイソプレンを析出する工程;を包含する。有機溶媒はエチレングリコールジメチルエーテルである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)