WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2017047096) RÉACTION D'ADDITION SIMPLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/047096    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/004251
Date de publication : 23.03.2017 Date de dépôt international : 16.09.2016
CIB :
C07F 9/53 (2006.01), C07F 9/32 (2006.01), C08G 79/04 (2006.01), C09K 21/12 (2006.01), C09K 21/14 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
Déposants : KATAYAMA CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. [JP/JP]; 2-5-10 Dosho-machi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045 (JP)
Inventeurs : FUJINO, Hiroyoshi; (JP).
WATANABE, Tomoko; (JP).
SAGA, Yuta; (JP)
Mandataire : YAMAMOTO, Shusaku; (JP).
MORISHITA, Natsuki; (JP).
KOMATANI, Takeshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-184918 18.09.2015 JP
Titre (EN) SIMPLE ADDITION REACTION
(FR) RÉACTION D'ADDITION SIMPLE
(JA) 単純付加反応
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a simple addition reaction of a phosphorus compound with respect to an alkene. The present invention provides a production method in which an alkene and a phosphorus compound are reacted in the presence of a catalytic amount of a base to enable the synthesis of simple addition products including novel compounds that are compatible with various substrates and are considered to have high utility. The advantages of the present production method over conventional production methods are as follows: (1) the residual halogen components and residual metal components in the product are decreased; (2) a compound with completely controlled regioselectivity is obtained, i.e., the target is 100% generated; and (3) production costs can be reduced.
(FR)La présente invention concerne une réaction d'addition simple d'un composé de phosphore par rapport à un alcène. La présente invention concerne un procédé de production dans lequel un alcène et un composé de phosphore sont mis à réagir en présence d'une quantité catalytique d'une base afin de permettre la synthèse de produits d'addition simple, y compris de nouveaux composés qui sont compatibles avec divers substrats et sont considérés comme étant d'une grande utilité. Les avantages du présent procédé de production par rapport aux procédés de production classiques sont les suivants : (1) les constituants halogènes résiduels et les constituants métalliques résiduels dans le produit sont réduits ; (2) un composé présentant une régiosélectivité entièrement régulée est obtenu, c'est-à-dire, la cible est générée à 100 % ; et (3) les coûts de production peuvent être réduits.
(JA)本発明は、アルケンに対するリン化合物の単純付加反応を提供する。本発明は、アルケンとリン化合物を触媒量の塩基存在下反応させることにより、様々な基質に応用可能であり、有用性が高いと考えられる新規化合物を含む単純付加生成物の合成が可能となる製造法を提供する。従来の製造法と比較した本製造法の利点として、(1)生成物中の残留ハロゲン成分および残留金属成分が低減していること、(2)位置選択性が完全に制御された化合物を得ること、つまり100%目的物が生成すること(3)製造コストの低減が可能になったことが挙げられる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)