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1. (WO2017045225) ESPACEUR ET APPAREIL DE FABRICATION ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/045225    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/090812
Date de publication : 23.03.2017 Date de dépôt international : 25.09.2015
CIB :
G03F 1/54 (2012.01), G02F 1/1339 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No. 9-2 Tangming Road, Guangming Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventeurs : LIU, Huan; (CN).
WANG, Zui; (CN).
GUO, Jinbo; (CN).
LO, Shih-hsun; (CN)
Mandataire : MING & YUE INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; Suite 611, 6/F, Block 206 Nanyou Second Industrial Zone (Block B,HengYue Center) No. 21 Dengliang Road, Nanshan Shenzhen, Guangdong 518054 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510583558.1 14.09.2015 CN
Titre (EN) SPACER AND MANUFACTURING APPARATUS THEREFOR
(FR) ESPACEUR ET APPAREIL DE FABRICATION ASSOCIÉ
(ZH) 隔垫物及其制造装置
Abrégé : front page image
(EN)A spacer (4) and a manufacturing apparatus therefor. The apparatus comprises a photomask (10) and an exposure apparatus (20) directly facing the photomask (10), wherein the photomask (10) comprises a central light-transmissive region (10a) and a peripheral light-transmissive region (10b) arranged on the periphery of the central light-transmissive region (10a). Light rays emitted from the exposure apparatus (20) irradiate a negative photoresist material after penetrating through the photomask (10), and the intensity of light rays penetrating through the peripheral light-transmissive region (10b) is less than the intensity of light rays penetrating through the central light-transmissive region (10a). The manufacturing of an inverted T-shaped spacer (4) can be realized by means of a one-time exposure process, the process is simple, and the manufacturing cost of the spacer (4) is low. At the same time, the flatness of a convex shoulder portion of the inverted T-shaped spacer (4) manufactured by an apparatus for manufacturing the spacer (4) is adjustable, so that manufacturing requirements of spacers (4) of different specifications can be satisfied.
(FR)Un espaceur (4) et un appareil de fabrication de celui-ci. L'appareil comprend un photomasque (10) et un appareil d'exposition (20) faisant directement face au photomasque (10), dans lequel le photomasque (10) comprend une zone transmettant la lumière centrale (10a) et une zone transmettant la lumière périphérique (10b) disposée sur la périphérie de la zone transmettant la lumière centrale (10a). Les rayons de lumière émis à partir de l'appareil d'exposition (20) irradient un matériau à base de résine photosensible négative après être passé à travers le photomasque (10), et l'intensité des rayons lumineux traversant la zone transmettant la lumière périphérique (10b) est inférieure à l'intensité de rayons lumineux traversant la zone transmettant la lumière centrale (10a). La fabrication d'un écarteur en forme de T inversé (4) peut être réalisée au moyen d'un processus d'exposition en une fois, le procédé est simple, et le coût de fabrication de l'espaceur (4) est réduit. En même temps, la planéité d'une partie d'épaulement convexe de l'espaceur en forme de T inversé (4) fabriqué par un appareil de fabrication de l'espaceur (4) est ajustable, de sorte que les exigences de fabrication des espaceurs (4) de différentes spécifications peuvent être satisfaites.
(ZH)一种隔垫物(4 )及其制造装置,所述装置包括光罩(10 )和与所述光罩(10 )正对的曝光装置(20 ),所述光罩(10 )包括中心透光区(10a )和设于所述中心透光区(10a )外围的外围透光区(10b),所述曝光装置(20 )发出的光线透过所述光罩(10 )后照射到负向光阻材料上,透过所述外围透光区(10b)的光线强度小于透过所述中心透光区(10a )的光线强度。通过一次曝光工艺即可实现"凸"字状隔垫物(4 )的制作,工艺简单,隔垫物(4 )制造成本低。同时,所述隔垫物(4 )制造装置制作的"凸"字状隔垫物(4 )的凸肩部的平整度可调,可以满足不同规格的隔垫物(4 )制造需求。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)