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1. (WO2017044201) SUPPORT DE SUBSTRAT À RÉGULATION DE FORCE ET DE CONTRAINTE DE FILM EN TEMPS RÉEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/044201    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/044989
Date de publication : 16.03.2017 Date de dépôt international : 01.08.2016
CIB :
H01L 21/687 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : BOYD, Wendell Glen, Jr.; (US).
RAJ, Govinda; (IN).
BUSCHE, Matthew James; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; (US).
TABOADA, Keith; (US)
Données relatives à la priorité :
14/852,485 11.09.2015 US
Titre (EN) SUBSTRATE SUPPORT WITH REAL TIME FORCE AND FILM STRESS CONTROL
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT À RÉGULATION DE FORCE ET DE CONTRAINTE DE FILM EN TEMPS RÉEL
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments disclosed herein include a substrate support having a sensor assembly, and processing chamber having the same. In one embodiment, a substrate support has a puck. The puck has a workpiece support surface and a gas hole exiting the workpiece support surface. A sensor assembly is disposed in the gas hole and configured to detect a metric indicative of a deflection of a workpiece disposed on the workpiece support surface, wherein the sensor assembly is configured to allow gas to flow past the sensor assembly when positioned in the gas hole.
(FR)Des modes de réalisation de l'invention concernent un support de substrat comportant un ensemble capteur, et une chambre de traitement le comprenant. Dans un mode de réalisation, le support de substrat comporte un palet. Le palet présente une surface de support de pièce et un trou de gaz sortant de la surface de support de pièce. Un ensemble capteur est disposé dans le trou de gaz et configuré pour détecter une métrique indiquant une déformation d'une pièce disposée sur la surface de support de pièce, l'ensemble capteur étant configuré pour permettre à des gaz de passer au-delà de l'ensemble capteur quand il est positionné dans le trou de gaz.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)