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1. (WO2017044042) CIBLE DE PULVÉRISATION EN ALLIAGE À BASE DE CO COMPRENANT DU BORURE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/044042    N° de la demande internationale :    PCT/SG2016/050407
Date de publication : 16.03.2017 Date de dépôt international : 23.08.2016
CIB :
C22C 19/07 (2006.01), C22F 1/10 (2006.01), B22F 9/00 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : HERAEUS MATERIALS SINGAPORE PTE., LTD. [SG/SG]; Block 5002, Ang Mo Kio Avenue 5, #04-12 TechPlace II, Singapore 569871 (SG)
Inventeurs : LEE, Sanghak; (SG).
XU, Jinling; (SG).
KARUPPANNAGOUNDER, Arul Kumar; (SG).
SURI, Pavan Kumar; (SG).
OLSZEWSKI, James; (SG).
APARNADEVI, Minisankar; (SG)
Mandataire : SPRUSON & FERGUSON (ASIA) PTE LTD; P.O. Box 1531, Robinson Road Post Office Singapore 903031 (SG)
Données relatives à la priorité :
10201507167U 07.09.2015 SG
Titre (EN) CO-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET HAVING BORIDE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION EN ALLIAGE À BASE DE CO COMPRENANT DU BORURE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a sputtering target, comprising a single phase of a cobalt-based alloy, wherein the cobalt-based alloy comprises chromium and optionally platinum as an alloying element, and boride particles, wherein the boride particles have an average particle size of 10 µm or less and are dispersed in the cobalt-based alloy.
(FR)La présente invention concerne une cible de pulvérisation qui comprend une phase unique d'un alliage à base de cobalt ; l'alliage à base de cobalt contenant du chrome et éventuellement du platine en tant qu’élément d'alliage, et des particules de borure ; les particules de borure présentant une taille moyenne de particule de 10 µm ou moins et étant dispersées dans l'alliage à base de cobalt.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)