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1. (WO2017043651) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT EN VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/043651    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/076695
Date de publication : 16.03.2017 Date de dépôt international : 09.09.2016
CIB :
C03C 15/00 (2006.01), B65G 49/06 (2006.01), H01L 21/302 (2006.01)
Déposants : NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI Yuji; (JP).
OHNO Kazuhiro; (JP).
NAKATSUKA Hiroki; (JP).
OKU Hayato; (JP)
Mandataire : SHIROMURA Kunihiko; (JP).
KUMANO Tsuyoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-179732 11.09.2015 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT EN VERRE
(JA) ガラス基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)In a method for manufacturing a glass substrate, the method comprising performing an etching process through use of a processing gas 5 in a processing region 4 provided above a conveyance path of a glass substrate 3 in a chamber 2 while the glass substrate 3 is conveyed in a horizontal direction, the glass substrate 3 being carried into the chamber 2 from a loading port 2a, and then carrying the processed glass substrate 3 out of the chamber 2 from a delivery port 2b, an opening width along a vertical direction in each of the loading port 2a and the delivery port 2b is adjusted on the basis of an atmospheric pressure difference between inside and outside the chamber 2 by moving opening width adjustment members 8, 9 on a top edge 2aa (2ba) side and a bottom edge 2ab (2bb) side, respectively, of openings of the loading port 2a and the delivery port 2b.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat en verre, le procédé comprenant la réalisation d'un processus de gravure par le biais de l'utilisation d'un gaz de traitement (5) dans une région de traitement (4) prévue au-dessus d'un trajet de transport d'un substrat en verre (3) dans une chambre (2) tandis que le substrat en verre (3) est transporté dans une direction horizontale, le substrat en verre (3) étant transporté à l'intérieur de la chambre (2) depuis un orifice de chargement (2a), puis le transport du substrat en verre traité (3) hors de la chambre (2) depuis un orifice de distribution (2b), une largeur d'ouverture dans une direction verticale dans chacun de l'orifice de chargement (2a) et de l'orifice de distribution (2b) est ajustée sur la base d'une différence de pression atmosphérique entre l'intérieur et l'extérieur de la chambre (2) par déplacement d'éléments de réglage de largeur d'ouverture (8, 9) du côté du bord supérieur (2 aa) (2 ba) et du côté du bord inférieur 2 (ab) (2 bb), respectivement, des ouvertures de l'orifice de chargement (2a) et de l'orifice de distribution (2b).
(JA)搬入口2aからチャンバー2内へと搬入したガラス基板3を水平方向に搬送しつつ、チャンバー2内でのガラス基板3の搬送経路上に設けた処理領域4で処理ガス5によりエッチング処理を施した後、処理後のガラス基板3を搬出口2bからチャンバー2外へと搬出するガラス基板の製造方法について、搬入口2a及び搬出口2bの各々における開口の上縁2aa(2ba)側と下縁2ab(2bb)側とでそれぞれ開口幅調節部材8,9を移動させることで、搬入口2a及び搬出口2bの各々における上下方向に沿った開口幅をチャンバー2内外の気圧差に基づいて調節した。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)