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1. (WO2017043495) APPAREIL DE TRAITEMENT LIQUIDE POUR SUBSTRATS ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE TRAJET D'ÉCOULEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/043495    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/076206
Date de publication : 16.03.2017 Date de dépôt international : 06.09.2016
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventeurs : NISHIMURA Hideki; (JP).
KIYOSE Hiromi; (JP)
Mandataire : NAGAI Hiroshi; (JP).
NAKAMURA Yukitaka; (JP).
SATO Yasukazu; (JP).
ASAKURA Satoru; (JP).
MORI Hideyuki; (JP).
YAMASHITA Kazuya; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-179310 11.09.2015 JP
Titre (EN) LIQUID TREATMENT APPARATUS FOR SUBSTRATES AND FLOW PATH CLEANING METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT LIQUIDE POUR SUBSTRATS ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE TRAJET D'ÉCOULEMENT
(JA) 基板液処理装置及び流路洗浄方法
Abrégé : front page image
(EN)This liquid treatment apparatus for substrates comprises: a flow path for flowing a treatment liquid for liquid treatment of a substrate; a cleaning liquid supply unit that is connected to the flow path and supplies cleaning liquids having a temperature difference; and a control unit that controls the cleaning liquid supply unit. The control unit controls the cleaning liquid supply unit so that a high temperature-side cleaning liquid supply step wherein a cleaning liquid at a high temperature is supplied from the cleaning liquid supply unit to the flow path and a low temperature-side cleaning liquid supply step wherein a cleaning liquid, which is at a lower temperature than the cleaning liquid in the high temperature-side cleaning liquid supply step, is supplied from the cleaning liquid supply unit to the flow path are alternately carried out.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement liquide pour des substrats et comprend : un trajet d'écoulement pour faire s'écouler un liquide de traitement pour le traitement liquide d'un substrat ; une unité d'alimentation en liquide de nettoyage qui est reliée au trajet d'écoulement et fournit des liquides de nettoyage ayant une différence de température ; et une unité de commande qui commande l'unité d'alimentation en liquide de nettoyage. L'unité de commande commande l'unité d'alimentation en liquide de nettoyage de sorte qu'une étape d'alimentation en liquide de nettoyage du côté température élevée dans laquelle un liquide de nettoyage à température élevée est fourni à partir de l'unité d'alimentation en liquide de nettoyage vers le trajet d'écoulement et qu'une étape d'alimentation en liquide de nettoyage du côté basse température dans laquelle un liquide de nettoyage, qui est à une température plus basse que le liquide de nettoyage dans l'étape d'alimentation en liquide de nettoyage du côté température élevée, est fourni à partir de l'unité d'alimentation en liquide de nettoyage vers le trajet d'écoulement soient alternativement mises en œuvre.
(JA)本発明によるによる基板液処理装置は、基板を液処理する処理液を流すための流路と、流路に接続された、温度差を有する洗浄液を供給するための洗浄液供給部と、洗浄液供給部を制御する制御部と、を有している。制御部は、洗浄液供給部から流路に高温の洗浄液を供給する高温側洗浄液供給工程と、洗浄液供給部から流路に、高温側洗浄液供給工程時の洗浄液よりも低温の洗浄液を供給する低温側洗浄液供給工程とを、交互に繰り返し行うように、洗浄液供給部を制御する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)