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1. (WO2017043307) PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION D'UNE PLAQUE DE VERRE ET DISPOSITIF POUR LA PRODUCTION DE CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/043307    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/074548
Date de publication : 16.03.2017 Date de dépôt international : 23.08.2016
CIB :
C03C 15/00 (2006.01)
Déposants : NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI Yuji; (JP).
OHNO Kazuhiro; (JP).
NAKATSUKA Hiroki; (JP).
IWATA Masakazu; (JP)
Mandataire : SHIROMURA Kunihiko; (JP).
KUMANO Tsuyoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-179733 11.09.2015 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING GLASS PLATE AND DEVICE FOR PRODUCING SAME
(FR) PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION D'UNE PLAQUE DE VERRE ET DISPOSITIF POUR LA PRODUCTION DE CELLE-CI
(JA) ガラス板の製造方法及びその製造装置
Abrégé : front page image
(EN)An upper surface 14 of a lower structure 11 having a gas supply opening 26 and a gas discharge opening 30 is arranged in opposition to a lower surface 13 of an upper structure 10, and a lower surface 3a of a glass plate 3 transported in the horizontal direction is subjected to an etching treatment in a treatment space 15 formed between said opposing surfaces 13, 14 with a treatment gas 5 that is blown out from the gas supply opening 16 and sucked into the gas discharge opening 30. The gas supply opening 26 and the gas discharge opening 30 are located so as to be separated in the transporting direction of the glass plate 3. The upper surface 14 of the lower structure 11 is configured such that an upper surface section 22a at the highest position in a region from the gas discharge opening 30 to the gas supply opening 26 is higher than an upper surface section 18ab at the highest position in a region on the downstream side of the gas discharge opening 30 in the treatment gas flow direction.
(FR)Une surface supérieure 14 d'une structure inférieure 11, présentant une ouverture 26 d'alimentation en gaz et une ouverture 30 d'évacuation de gaz, est disposée en regard d'une surface inférieure 13 d'une structure supérieure 10, et une surface inférieure 3a d'une plaque de verre 3, transportée dans la direction horizontale, est soumise à un traitement de gravure dans un espace de traitement 15 formé entre lesdites surfaces en regard 13, 14 avec un gaz de traitement 5 qui est soufflé depuis l'ouverture 16 d'alimentation en gaz et aspiré dans l'ouverture 30 d'évacuation de gaz. L'ouverture 26 d'alimentation en gaz et l'ouverture 30 d'évacuation de gaz sont situées de manière à être séparées dans la direction de transport de la plaque de verre 3. La surface supérieure 14 de la structure inférieure 11 est conçue de sorte qu'une section 22a de surface supérieure au niveau de la position la plus élevée dans une région partant de l'ouverture 30 d'évacuation de gaz jusqu'à l'ouverture 26 d'alimentation en gaz est supérieure à une section 18ab de surface supérieure au niveau de la position la plus élevée dans une région sur le côté aval de l'ouverture 30 d'évacuation de gaz dans la direction d'écoulement de gaz de traitement.
(JA)給気口26及び排気口30を有する下部構成体11の上面14と、上部構成体10の下面13とを対向させて配置し、対向する両面13、14の相互間に形成される処理空間15で、給気口16から吹き出されて排気口30に吸い込まれる処理ガス5によって、水平方向に搬送されるガラス板3の下面3aにエッチング処理を施すと共に、給気口26と排気口30とを、ガラス板3搬送方向に離隔して位置させる。そして、下部構成体11の上面14は、排気口30から給気口26までの領域における最高位の上面部22aが、排気口30の処理ガス流れ方向下流側の領域における最高位の上面部18abよりも高くされる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)