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1. (WO2017043139) LIQUIDE DE POLISSAGE, ENSEMBLE LIQUIDE DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/043139 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/067585
Date de publication : 16.03.2017 Date de dépôt international : 13.06.2016
CIB :
C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.[JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606, JP
Inventeurs : AKUTSU Toshiaki; JP
MINAMI Hisataka; JP
IWANO Tomohiro; JP
YAMASHITA Tetsuro; JP
AOKI Masako; JP
FUKASAWA Masato; JP
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; JP
Données relatives à la priorité :
2015-17752909.09.2015JP
Titre (EN) POLISHING LIQUID, POLISHING LIQUID SET, AND SUBSTRATE POLISHING METHOD
(FR) LIQUIDE DE POLISSAGE, ENSEMBLE LIQUIDE DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE DE SUBSTRAT
(JA) 研磨液、研磨液セット及び基体の研磨方法
Abrégé :
(EN) Provided is a polishing liquid comprising a liquid vehicle, abrasive grains, and a polymer. The polymer has a first molecular chain where functional groups are directly bonded and a second molecular chain branched from the first molecular chain. The functional groups are at least one selected from the group consisting of carboxyl, carboxylate, hydroxyl, sulfo, and sulfonate groups.
(FR) L'invention concerne un liquide de polissage comprenant un véhicule liquide, des grains abrasifs et un polymère. Le polymère possède une première chaîne moléculaire dans laquelle des groupes fonctionnels sont liés directement et une seconde chaîne moléculaire ramifiée à partir de la première chaîne moléculaire. Les groupes fonctionnels sont au moins un groupe choisi parmi les groupe carboxyle, carboxylate, hydroxyle, sulfo et sulfonate.
(JA) 液状媒体と、砥粒と、ポリマと、を含有し、前記ポリマが、官能基が直接結合した第1の分子鎖と、当該第1の分子鎖から分岐した第2の分子鎖と、を有し、前記官能基が、カルボキシル基、カルボン酸塩基、ヒドロキシル基、スルホ基及びスルホン酸塩基からなる群より選択される少なくとも一種である、研磨液。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)