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1. (WO2017042974) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/042974    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/075904
Date de publication : 16.03.2017 Date de dépôt international : 11.09.2015
CIB :
H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400,Oaza Yokokurashinden,Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventeurs : IWAMOTO Fumio; (JP).
HORI Tsukasa; (JP).
HIRASHITA Toshiyuki; (JP)
Mandataire : MATSUURA Kenzo; Matsuura & Associates, P.O. Box 176, Shinjuku Sumitomo Bldg. 23F, 6-1, Nishi-shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630223 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Abrégé : front page image
(EN)This extreme ultraviolet light generation device may be provided with: a chamber in which laser light is applied to a target, and extreme ultraviolet light is generated; and a target supply unit that discharges the target to the inside of the chamber. The garget supply unit may be equipped with a nozzle member that is provided with a discharge surface, in which a discharge port for discharging the target to the inside of the chamber is formed, and an angle θ1 formed between the discharge surface and a gravity axis may satisfy conditions of "0 degree<θ1<90 degrees".
(FR)L'invention concerne un dispositif de génération de lumière ultraviolette extrême qui peut être pourvu : d'une chambre dans laquelle une lumière laser est appliquée sur une cible, et une lumière ultraviolette extrême est générée ; et d'une unité d'alimentation cible qui évacue la cible à l'intérieur de la chambre. L'unité d'alimentation cible peut être équipée d'un élément de buse pourvu d'une surface d'évacuation, dans laquelle un orifice d'évacuation permettant d'évacuer la cible à l'intérieur de la chambre est formé, et un angle (θ1) formé entre la surface d'évacuation et un axe de gravité peut satisfaire des conditions de "0 degré<θ1<90 degrés".
(JA)極端紫外光生成装置は、内部でターゲットにレーザ光が照射されて極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲットをチャンバ内へ吐出するターゲット供給部と、を備え、ターゲット供給部は、ターゲットをチャンバ内へ吐出する吐出口が形成された吐出面を備えるノズル部材を備え、吐出面と重力軸との成す角度θ1が条件「0度<θ1<90度」を満たす、としてよい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)