WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Options
Langue d'interrogation
Stemming/Racinisation
Trier par:
Nombre de réponses par page
1. (WO2017041470) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION ET DE RÉUTILISATION DE SOLUTION RÉSIDUAIRE DE GRAVURE À L'ACIDE AYANT UNE FONCTION DE TRAITEMENT DES GAZ DE QUEUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2017/041470 N° de la demande internationale : PCT/CN2016/077064
Date de publication : 16.03.2017 Date de dépôt international : 23.03.2016
CIB :
C23F 1/46 (2006.01) ,C23F 1/34 (2006.01) ,C25C 1/12 (2006.01) ,C25B 1/26 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
F
ENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1
Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
46
Régénération des compositions de décapage
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
F
ENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1
Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
10
Compositions de décapage
14
Compositions aqueuses
32
Compositions alcalines
34
pour le cuivre ou ses alliages
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
C
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION, LA RÉCUPÉRATION OU L'AFFINAGE ÉLECTROLYTIQUE DES MÉTAUX; APPAREILLAGES À CET EFFET
1
Production, récupération ou affinage électrolytique des métaux par électrolyse de solutions
12
du cuivre
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
B
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES POUR LA PRODUCTION DE COMPOSÉS ORGANIQUES OU MINÉRAUX, OU DE NON-MÉTAUX; APPAREILLAGES À CET EFFET
1
Production électrolytique de composés inorganiques ou de non-métaux
24
d'halogènes ou de leurs composés
26
Chlore; Ses composés
Déposants : CHENGDU HONGHUA ENVIRONMENTAL SCIENCE & TECHNOLOGY CO., LTD[CN/CN]; No.4, Xixin Rd, Hi-Tech Industrial Development Zone Chengdu, Sichuan 610000, CN
Inventeurs : WEI, Janmin; CN
WU, Mei; CN
ZHAO, Xingwen; CN
ZHANG, Xiaobei; CN
ZHANG, Xiaobo; CN
Mandataire : CHENGDU JINYING PATENT FIRM; 12/F, Bldg 1, Xihuan Plaza No.489, the Third Guanghua Eastern Road, Qingyang District Chengdu, Sichuan 610072, CN
Données relatives à la priorité :
201510569176.309.09.2015CN
201520694115.509.09.2015CN
Titre (EN) ACIDIC ETCHING WASTE SOLUTION REUSE AND RECOVERY SYSTEM HAVING TAIL-GAS TREATMENT FUNCTION
(FR) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION ET DE RÉUTILISATION DE SOLUTION RÉSIDUAIRE DE GRAVURE À L'ACIDE AYANT UNE FONCTION DE TRAITEMENT DES GAZ DE QUEUE
(ZH) 一种具有尾气处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统
Abrégé :
(EN) An acidic etching waste solution reuse and recovery system having a tail-gas treatment function comprises: an etching solution treatment system; and a chlorine gas recycling system. The etching solution treatment system comprises: an etching production line (1); a mother liquor storage tank (2); an electrolytic cell; and a dissolution and absorption system (6). The electrolytic cell comprises a cathode compartment (3) and an anode compartment (5). The mother liquor storage tank (2), the cathode compartment (3), the anode compartment (5) and the dissolution and absorption system (6) sequentially communicate with each other. The etching production line (1) respectively communicates with the mother liquor storage tank (2) and the dissolution and absorption system (6). The chlorine gas recycling system comprises a gas-scrubbing system (7) and a tail-gas treatment system (8). The anode compartment (5), the gas-scrubbing system (7) and the tail-gas treatment system (8) sequentially communicate with each other. The acidic etching waste solution reuse and recovery system is configured to treat an acidic etching waste solution, and can perform an off-line production operation, save costs and resources, and prevent environmental pollution.
(FR) Cette invention concerne un système de récupération et de réutilisation de solution résiduaire de gravure à l'acide ayant une fonction de traitement des gaz de queue, comprenant : un système de traitement de solution de gravure ; et un système de recyclage de gaz de chlore. Ledit système de traitement de solution de gravure comprend : une ligne de production de gravure (1) ; un réservoir de stockage de liqueur mère (2) ; une cellule électrolytique ; et un système d'absorption et de dissolution (6). Ladite cellule électrolytique comprend un compartiment de cathode (3) et un compartiment d'anode (5). Le réservoir de stockage de liqueur mère (2), le compartiment de cathode (3), le compartiment d'anode (5) et le système d'absorption et de dissolution (6) communiquent séquentiellement l'un avec l'autre. Ladite ligne de production de gravure (1) respectivement liqueur mère communique avec le réservoir de stockage (2) et le système d'absorption et de dissolution (6). Ledit système de recyclage de gaz de chlore comprend un système d'épuration de gaz (7) et un système de traitement des gaz de queue (8). Le compartiment d'anode (5), le système d'épuration de gaz (7) et le système de traitement des gaz de queue (8) communiquent séquentiellement l'un avec l'autre. Ledit système de récupération et de réutilisation de solution résiduaire de gravure à l'acide est configuré pour traiter une solution résiduaire de gravure acide, et il peut effectuer une opération de production hors ligne, économiser les coûts et les ressources, et éviter la pollution environnementale.
(ZH) 一种具有尾气处理功能的酸性蚀刻液循环再生系统,包括蚀刻液处理系统和氯气回收系统,蚀刻液处理系统包括蚀刻生产线(1)、母液储存罐(2)、电解槽和溶解吸收系统(6),电解槽包括阴极槽(3)和阳极槽(5),母液储存罐(2)、阴极槽(3)、阳极槽(5)、溶解吸收系统(6)依次连通,蚀刻生产线(1)分别与母液储存罐(2)和溶解吸收系统(6)连通,氯气回收系统包括洗气系统(7)和尾气处理系统(8),阳极槽(5)、洗气系统(7)和尾气处理系统(8)依次连通。该酸性蚀刻液循环再生系统用于处理酸性蚀刻废液,可离线生产、节约成本和资源,防止环境污染。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)