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1. (WO2017040463) PROCÉDÉS ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE CHIFFONS ANTIMICROBIENS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/040463    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/049375
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 30.08.2016
CIB :
A01N 61/00 (2006.01), A61L 2/14 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01), A01P 1/00 (2006.01)
Déposants : EP TECHNOLOGIES LLC [US/US]; 520 South Main Street Suite 2455 Akron, OH 44311 (US)
Inventeurs : TSAI, Tsung-Chan; (US).
LOUIS, Jeffrey S.; (US).
ANTONAKAS, Daphne Pappas; (US).
KALGHATGI, Sameer; (US).
GRAY, Robert L.; (US)
Mandataire : BONNER, Chet J.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/211,967 31.08.2015 US
Titre (EN) METHODS OF AND SYSTEM FOR GENERATING ANTIMICROBIAL WIPES
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE CHIFFONS ANTIMICROBIENS
Abrégé : front page image
(EN)Exemplary methods of and system for generating an antimicrobial wipe to clean and disinfect a surface contaminated with bacteria, viruses, spores, fungi, or combinations thereof. In some embodiments, the method includes applying non-thermal plasma to a moistened wipe to activate a liquid in the wipe. In some embodiments, the method includes applying non-thermal plasma to a liquid and then applying the activated liquid to a wipe. In one embodiment of a system for generating an antimicrobial wipe the system includes a housing having an opening; a supply of wipes disposed within the housing; a non -thermal plasma generator disposed within the housing; a power supply electrically coupled to the non-thermal plasma generator; and a feed system disposed within the housing, wherein the feed system moves one or more wipes from the supply of wipes past the plasma generator and out of the opening. As the feed system moves the wipes past the plasma generator, the plasma generator applies non-thermal plasma to the wipes.
(FR)L'invention concerne des procédés à titre d'exemple et un système pour générer un chiffon antimicrobien pour nettoyer et désinfecter une surface contaminée par des bactéries, des virus, des spores, des champignons ou des combinaisons de ces derniers. Dans certains modes de réalisation, le procédé consiste à appliquer un plasma non-thermique sur un chiffon humidifié pour activer un liquide dans le chiffon. Dans certains modes de réalisation, le procédé consiste à appliquer un plasma non-thermique sur un liquide, puis appliquer le liquide activé sur un chiffon. Dans un mode de réalisation d'un système pour générer un chiffon antimicrobien, le système comprend un boîtier ayant une ouverture ; une alimentation en chiffons disposée à l'intérieur du boîtier ; un générateur de plasma non-thermique disposé à l'intérieur du boîtier ; une alimentation électrique couplée électriquement au générateur de plasma non-thermique ; et un système d'alimentation disposé à l'intérieur du boîtier, le système d'alimentation déplaçant un ou plusieurs chiffons depuis l'alimentation en chiffons au-delà du générateur de plasma et hors de l'ouverture. À mesure que le système d'alimentation déplace les chiffons au-delà du générateur de plasma, le générateur de plasma applique un plasma non-thermique sur les chiffons.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)